[發(fā)明專利]一種小型離軸三反電離層成像儀框架裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010811907.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112051233B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白雪松;付利平;付建國(guó);賈楠;王天放;李睿智;肖思;彭如意;江芳 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院國(guó)家空間科學(xué)中心 |
| 主分類號(hào): | G01N21/33 | 分類號(hào): | G01N21/33;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京方安思達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11472 | 代理人: | 武玥;張紅生 |
| 地址: | 100190 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 小型 離軸三反 電離層 成像 框架 裝置 | ||
1.一種小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,包括:前蓋板、后蓋板、離軸三反鏡組件、主框架、探測(cè)器組件、T型狹縫結(jié)構(gòu)、桁架桿、消雜光陷阱、遮光筒Ⅰ、遮光筒Ⅱ和探測(cè)器光闌,其特征在于,所述離軸三反鏡組件包括主鏡組件、次鏡組件和三鏡組件;所述主框架包括一體成型的入光口板、主鏡基板、次鏡基板、三鏡基板、探測(cè)器基板、頂板、底板、支撐板Ⅰ、支撐板Ⅱ、擋光板Ⅰ、擋光板Ⅱ和擋光板Ⅲ;所述擋光板Ⅰ、擋光板Ⅱ和擋光板Ⅲ的一端采用Y型連接,擋光板Ⅲ另一端與探測(cè)器基板連接,擋光板Ⅱ的另一端與支撐板Ⅰ連接,擋光板Ⅰ另一端與主鏡基板連接;擋光板Ⅰ、擋光板Ⅱ和擋光板Ⅲ將主框架分為主鏡艙、次鏡艙和三鏡艙;所述主鏡組件安裝在主鏡基板;所述次鏡組件安裝在次鏡基板上;所述三鏡組件安裝在三鏡基板上;所述探測(cè)器組件安裝在探測(cè)器基板上;所述擋光板Ⅱ設(shè)置T型狹縫結(jié)構(gòu);所述遮光筒Ⅰ安裝在入光口板上,遮光筒Ⅱ和探測(cè)器光闌安裝在探測(cè)器基板上;在三鏡基板和探測(cè)器基板的安裝腳上分別均設(shè)置桁架桿;所述底板設(shè)有獨(dú)立安裝的消雜光陷阱;所述前蓋板和后蓋板固定在主框架的兩個(gè)端面,靠近主鏡艙、次鏡艙和三鏡艙內(nèi)一側(cè)均設(shè)有一體成型的消雜光陷阱;所述頂板兩端分別與入光口板和主鏡基板相連;所述支撐板Ⅱ兩端分別與次鏡基板和探測(cè)器基板相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述主鏡組件、次鏡組件和三鏡組件均包括鏡框、膠斑和鏡子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述離軸三反鏡組件及探測(cè)器組件均在主框架預(yù)留的安裝接口上采用外側(cè)嵌入式安裝。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述擋光板Ⅰ、擋光板Ⅱ和擋光板Ⅲ中心掏空,使離軸三反光學(xué)系統(tǒng)中心無(wú)遮擋。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述T型狹縫結(jié)構(gòu)采用外側(cè)嵌入式的方式安裝在擋光板Ⅱ無(wú)遮擋位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述桁架桿與桁架桿安裝腳的裝配聯(lián)合采用螺釘連接和結(jié)構(gòu)限位的形式。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述前蓋板和后蓋板的消雜光陷阱由縱橫排列的0.3-0.6mm厚的薄板組成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小型離軸三反電離層成像儀框架裝置,其特征在于,所述主框架內(nèi)表面、遮光筒Ⅰ和遮光筒Ⅱ全表面、T型狹縫結(jié)構(gòu)、擋光板Ⅰ、擋光板Ⅱ和擋光板Ⅲ全表面、探測(cè)器光闌全表面、前蓋板和后蓋板內(nèi)表面、桁架桿全表面和光學(xué)陷阱全表面均噴涂消雜光黑漆材料。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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