[發明專利]相位檢測自動聚焦降噪在審
| 申請號: | 202010805621.2 | 申請日: | 2016-08-24 |
| 公開(公告)號: | CN111885308A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發明(設計)人: | M·加洛羅·格盧斯金;R·M·維拉爾德;J·李 | 申請(專利權)人: | 高通股份有限公司 |
| 主分類號: | H04N5/232 | 分類號: | H04N5/232;H04N5/369;G02B7/34;H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 楊林勳 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 相位 檢測 自動 聚焦 | ||
1.一種成像設備,其包括:
多個二極管,其包括所述多個二極管的第一子組和所述多個二極管的第二子組,所述多個二極管經配置以捕捉
圖像信息,其表示目標場景的圖像信息,所述圖像信息從所述多個二極管的所述第一子集接收,
相位檢測信息,所述相位檢測信息從所述多個二極管的所述第二子集接收;以及
處理器,其配置有指令以
針對所述多個二極管的所述第二子集中的每一二極管
存取從所述二極管接收的所述相位檢測信息,
使用從所述二極管的位置周圍的預定多個二極管接收的圖像信息來確定對應于所述二極管的所述位置的中心值,以及
根據所述中心值和經存取的相位檢測信息來確定對應于所述位置的虛擬相位檢測值,
構成至少一個
相位檢測圖像,根據來自所述多個二極管的所述第二子集中的至少一些的所述相位檢測信息,以及
中心圖像,根據所述多個二極管的所述第二子集中的每一者的所述中心值,以及
根據所述多個二極管的所述第二子集中的所述至少一些的所述虛擬相位檢測值來構成虛擬相位檢測圖像,
計算所述虛擬相位檢測圖像、經構成的相位檢測圖像或所述中心圖像中的兩個或更多個之間的相位差,以及
基于所述相位差來確定自動聚焦調整。
2.根據權利要求1所述的成像設備,其中所述處理器經配置以通過從所述中心值減去從所述位置處的所述二極管接收的相位檢測值來確定所述虛擬相位檢測值。
3.根據權利要求1所述的成像設備,其中所述處理器經配置以通過使用從所述位置周圍的所述預定多個二極管接收的所述圖像信息內插所述中心值來確定所述中心值。
4.根據權利要求1所述的成像設備,其中所述多個二極管的所述第二子集包括多對相對相位檢測二極管。
5.根據權利要求4所述的成像設備,其中所述處理器經配置以針對所述多個二極管的所述第二子集中的每一二極管:
識別相對相位檢測二極管;以及
識別相對相位檢測圖像和對應于所述相對相位檢測二極管的相對虛擬相位圖像。
6.根據權利要求5所述的成像設備,其中所述處理器經配置以識別所述中心圖像、所述相位檢測圖像、所述相對相位檢測圖像,所述虛擬相位圖像和所述相對虛擬相位圖像的所有可能的對之間的相位差。
7.根據權利要求6所述的成像設備,其中所述處理器經配置以基于所述相位差來計算所述自動聚焦調整。
8.根據權利要求1所述的成像設備,其進一步包括遮蔽元件,所述遮蔽元件定位于所述多個二極管的所述第二子組中的每一者上方以阻擋從所述目標場景傳播的光的一部分,因此所述多個二極管的所述第二子組中的每一者僅收集在特定方向上從所述目標場景傳播的所述光。
9.根據權利要求1所述的成像設備,其進一步包括定位于所述多個二極管的所述第二子組的至少兩個鄰近二極管上方的微透鏡,所述微透鏡經形成以將從所述目標場景傳播的光的第一部分傳送到所述至少兩個鄰近二極管中的第一個且將從所述目標場景傳播的光的第二部分傳送到所述至少兩個鄰近二極管中的第二個,所述第一部分在第一方向上傳播且所述第二部分在第二方向上傳播。
10.根據權利要求1所述的成像設備,其中所述多個二極管包括具有所述多個二極管的二維矩陣的半導體襯底。
11.根據權利要求1所述的成像設備,其中與所述多個二極管的所述第二子組的第一半相關聯的光學元件經配置以使得所述多個二極管的所述第二子組的所述第一半中的每一二極管僅收集在第一方向上從所述目標場景傳播的光以產生所述相位檢測信息的第一半。
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