[發(fā)明專利]真空滅弧室筒體、真空滅弧室屏蔽罩及真空滅弧室

在審

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• 申請日: 2020-08-11
• 公開（公告）號: CN112103128A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉暢;薛從軍;李小釗;齊大翠;翟莘;趙芳帥;亓春偉;李錕;王宇浩;劉世柏;張楊;劉晶晶;鄭樂樂
• 申請（專利權(quán)）人: 平高集團有限公司;國家電網(wǎng)有限公司;國網(wǎng)浙江省電力有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/662
• 代理公司: 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 41119
• 代理人: 胡曉東

1.真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，為單體零件，包括：

主罩體，為筒狀結(jié)構(gòu)，以主罩體的軸向為上下方向，主罩體的上下端分別設(shè)有上翻邊和下翻邊；

上翻邊，從所述主罩體的上端開始向主罩體的徑向外側(cè)翻折，上翻邊與主罩體形成橫截面為開口朝下的U形結(jié)構(gòu)；

下翻邊，從所述主罩體的下端開始向主罩體的徑向外側(cè)翻折，下翻邊與主罩體形成橫截面為開口朝上的U形結(jié)構(gòu)；

法蘭邊，從上翻邊和下翻邊中的其中一個的端部開始向遠離主罩體的一側(cè)延伸，法蘭邊垂直于主罩體的軸線設(shè)置，用于封接在上瓷殼和下瓷殼之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，連接有所述法蘭邊的上翻邊或下翻邊包括弧形段和直段，弧形段連接在主罩體與直段之間，所述法蘭邊與直段連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述直段沿上下方向延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述法蘭邊與直段圓弧過渡連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述弧形段為半圓形。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述主罩體由不銹鋼板或無氧銅板制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述真空滅弧室屏蔽罩通過引伸或旋壓的方式制成。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述真空滅弧室屏蔽罩的厚度為1mm-1.5mm。

9.真空滅弧室筒體，包括上瓷殼和下瓷殼，上瓷殼和下瓷殼圍成的腔體內(nèi)設(shè)有真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述真空滅弧室屏蔽罩為權(quán)利要求1-8中任一項所述的真空滅弧室屏蔽罩。

10.真空滅弧室，包括真空滅弧室筒體，真空滅弧室筒體內(nèi)設(shè)有動觸頭和靜觸頭，所述真空滅弧室筒體包括上瓷殼和下瓷殼，上瓷殼和下瓷殼圍成的腔體內(nèi)設(shè)有真空滅弧室屏蔽罩，其特征在于，所述真空滅弧室屏蔽罩為權(quán)利要求1-8中任一項所述的真空滅弧室屏蔽罩。