[發(fā)明專利]一種抽真空后內(nèi)噴納米材料的化妝品實(shí)品容器的生產(chǎn)工藝

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010799697.9
• 申請(qǐng)日: 2020-08-11
• 公開（公告）號(hào): CN112111710A
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁青林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卓比（東莞）包裝有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/28
• 分類號(hào): C23C14/28;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/02
• 代理公司: 北京匯彩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11563
• 代理人: 宋春妮

1.一種抽真空后內(nèi)噴納米材料的化妝品實(shí)品容器的生產(chǎn)工藝，其特征在于，(1)將透明的瓶子類或罐子類的化妝品實(shí)品容器的內(nèi)壁進(jìn)行清潔干燥，涂布一層3-氨丙基三烷氧基硅烷溶液，干燥后，放入專用夾具內(nèi)；(2)對(duì)化妝品實(shí)品容器抽真空，然后氮?dú)庵脫Q3次后，輸氣管道通入氧氣至1000ppm，工作電壓：380V，微波頻率：1GHz，脈沖峰值功率：8000W，連續(xù)功率max：600W，溫度60-80℃，作用600s；(3)抽真空至25-50Pa，向化妝品實(shí)品容器內(nèi)通入四氯化鈦、四氯化硅和氧氣，工作電壓：380V，微波頻率：2.45GHz，脈沖峰值功率：15000W，連續(xù)功率max：1200W，溫度160-300℃，控制沉積速率：SiO₂ 5nm/s，TiO₂ 2.5nm/s，控制沉積時(shí)間，從而形成SiO₂和TiO₂的2:1復(fù)合膜層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抽真空后內(nèi)噴納米材料的化妝品實(shí)品容器的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述四氯化鈦、四氯化硅的摩爾比為2:1，氧氣過量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抽真空后內(nèi)噴納米材料的化妝品實(shí)品容器的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述沉積時(shí)間為400-800s。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抽真空后內(nèi)噴納米材料的化妝品實(shí)品容器的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述3-氨丙基三烷氧基硅烷溶液包含：3-氨丙基三烷氧基硅烷和正硅酸乙酯，乙酸乙酯，比例為1:0.2-0.4:10，干燥后涂層厚度為10um。