[發明專利]通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法有效
| 申請號： | 202010798832.8 | 申請日： | 2020-08-11 |
| 公開（公告）號： | CN111939774B | 公開（公告）日： | 2022-07-29 |
| 發明（設計）人： | 邵路;郭靖;張艷秋 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號： | B01D71/56 | 分類號： | B01D71/56;B01D69/12;B01D67/00;B01D61/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 通過 刻蝕 生長 納米 粒子 制備 復合 濾膜 方法 | ||
1.一種通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，包括如下步驟：
步驟一、酸刻蝕聚酰胺納濾膜：將聚酰胺納濾膜浸泡在酸溶液中，然后取出并用去離子水浸泡清洗；
步驟二、納米粒子在聚酰胺層中原位生長：將清洗后的聚酰胺納濾膜，浸泡在由硝酸銅溶液和均苯三甲酸溶液混合而成的溶液體系中，然后取出并用溶劑沖洗，得到含納米粒子的復合納濾膜；
步驟一中，所述聚酰胺納濾膜含有聚酰胺層，所述聚酰胺納濾膜由聚酰胺層和多孔支撐膜組成，所述聚酰胺層是由胺類物質的單體水溶液和酰氯類物質的有機溶液，通過界面聚合的方法制備的。
2.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟一中，所述酸溶液為鹽酸、硫酸、硝酸、草酸或碳酸溶液。
3.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟一中，所述酸溶液的浸泡時間為1分鐘到24小時。
4.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟二中，所述硝酸銅溶液為硝酸銅與乙醇或N,N-二甲基甲酰胺的混合溶液，均苯三甲酸溶液為均苯三甲酸與乙醇或N,N-二甲基甲酰胺的混合溶液。
5.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟二中，所述浸泡時間為1小時到72小時。
6.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟二中，所述溶劑為水或有機溶劑。
7.根據權利要求1所述的通過刻蝕后生長納米粒子制備復合納濾膜的方法，其特征在于，步驟一中，所述酸溶液濃度為0.1～5mol/L。
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