[發明專利]一種減少陰極表面結垢的方法在審
| 申請號: | 202010795871.2 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN112062227A | 公開(公告)日: | 2020-12-11 |
| 發明(設計)人: | 成少安 | 申請(專利權)人: | 杭州潔安環??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461;C02F1/46 |
| 代理公司: | 杭州融方專利代理事務所(普通合伙) 33266 | 代理人: | 沈相權 |
| 地址: | 311201 浙江省杭州市蕭山區瓜瀝*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 減少 陰極 表面 結垢 方法 | ||
1.一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于按以下步驟進行:
在陰極材料表面涂覆含有納米或微米有機物粒子的乳液,在陰極表面形成親水或憎水的納米顆粒結構層,減少在電解過程中陰極表面的結垢;
由下述步驟實現的:
一、配制含有0.05~5%納米或微米顆粒的乳液;
二、陰極片先在80℃40wt%的NaOH溶液里浸泡30min,用水清洗后,再用酒精或丙酮清洗表面,然后將上述乳液涂覆在陰極表面,最后在室溫下干燥30分鐘;
三、將步驟二中涂覆納米或微米顆粒的陰極片放入加熱爐中,在60~360℃空氣氣氛下加熱10~30分鐘。
2.根據權利要求1所述的一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于:步驟一中:納米或微米顆粒物質為聚四氟乙烯和全氟磺酸-聚四氟乙烯共聚物其中的一種;
聚四氟乙烯乳液的配制:取3.3~330μL的60%聚四氟乙烯乳液加入到96.7~100mL去離子水中,顆粒大小為1μm~200nm,混合均勻后制得重量百分數為0.05~5%聚四氟乙烯乳液;
全氟磺酸聚四氟乙烯乳液的配制:取1mL~10mL的5%全氟磺酸聚四氟乙烯乳液加入到90mL~99mL去離子水中,顆粒大小為1μm~200nm,混合均勻后制得重量百分數為0.05%~5%全氟磺酸聚四氟乙烯乳液。
3.根據權利要求2所述的一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于:步驟一中:納米或微米顆粒物質的顆粒大小為1μm~200nm。
4.根據權利要求3所述的一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于:步驟一中:納米或微米顆粒物質的濃度為0.05~5%重量百分數,用去離子水稀釋配制。
5.根據權利要求3所述的一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于:步驟二中:將乳液涂覆在陰極表面的方法為浸入法,乳液涂覆在陰極表面,陰極浸入乳液中的時間為10~30秒。
6.根據權利要求3所述的一種減少陰極表面結垢的方法,其特征在于:步驟三中:對于涂覆聚四氟乙烯的陰極加熱溫度為340~360℃,對于涂覆全氟磺酸-聚四氟乙烯共聚物的陰極為60~80℃。
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