[發明專利]一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法有效
| 申請號: | 202010795550.2 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN111945478B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 趙麗君;周立春;劉文;李彥波;史賀 | 申請(專利權)人: | 中國制漿造紙研究院衢州分院 |
| 主分類號: | D21H27/12 | 分類號: | D21H27/12;D21H13/26;D21H17/69;D06M10/02;D06M101/36 |
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| 地址: | 324000 浙江省衢州市衢*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 處理 改性 納米 云母 絕緣紙 制備 方法 | ||
1.一種等離子體改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)將芳綸纖維用溫水洗滌,干燥后得到芳綸纖維原料,然后將芳綸纖維原料在亞大氣壓輝光放電等離子體裝置中處理,得到改性的芳綸纖維A,等離子體裝置的處理條件:功率400~800W,氣壓1200~1700kPa,時間2~10min,空氣氣氛或純氧氣氛;將處理后的纖維密封貯存,一周內使用。
(2)將去雜質的云母粉、研磨保護液和水一定比例混合制備云母懸浮液B,然后放入膠體研磨機進行研磨,得到納米云母研磨液C。
(3)將酸性溶液加入云母研磨液C,調節PH在3~4,以200~500r/min轉速攪拌一定時間后,靜置8~15min,過濾后得到納米云母沉淀物D,再將經過高溫干燥后的納米云母沉淀物D進行氣流粉碎得到納米云母粉E。
(4)將納米云母粉E放在亞大氣壓輝光放電等離子體裝置中處理,得到納米云母粉F,等離子體裝置的處理條件:功率500~800W,氣壓1300~1800kPa,時間1~6min,空氣氣氛或純氧氣氛;將納米云母粉F密封貯存,一周內使用。
(5)將改性的芳綸纖維A、納米云母粉F和水配比混合,經過高速分散制成芳綸纖維納米云母粉懸浮液D,其懸浮液形成納米云母顆粒包裹芳綸纖維形態。
(6)將混合芳綸纖維納米云母粉懸浮液D經過抄紙器成型,最后制備成高性能芳綸云納米母絕緣濕紙頁。
(7)將高性能芳綸納米云母絕緣濕紙頁干燥后得到高性能芳綸納米云母絕緣原紙。
(8)將制備好的高性能芳綸納米云母絕緣原紙進行熱壓,熱壓機為雙鋼輥熱壓機,熱壓溫度220~265℃,熱壓壓力15~25Mpa,優化高性能芳綸納米云母絕緣原紙性能,制備出高性能芳綸納米云母絕緣紙。
2.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(1)中芳綸為聚間苯二甲酰對苯二胺纖維,其纖維的長度為0.01~8mm,洗滌溫水的溫度為30~100℃,洗滌時間10min~60min。
3.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(2)中云母粉為白云母和金云母中的一種或二者混合,云母粉的粒徑為40目~100目,二者混合的質量比1~6:1~2。
4.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(2)中研磨保護液為硅油和甘油的一種或二者混合,混合質量比1:1~4。
5.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(2)中云母粉、研磨保護液和水的質量比為200:(1~3):(300~600),研磨時間5~25min。
6.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(3)中酸性溶液為稀鹽酸或硫酸,攪拌時間控制在10~25min。
7.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(3)中干燥納米云母沉淀物D的干燥溫度范圍為80℃~105℃,進過納米氣流粉碎后獲得高純度和高均質性的納米云母粉E。
8.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸納米云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(5)中芳綸纖維A、納米云母粉F和水的比例為(0.5~3)g:(0.5~3)g:500ml。轉速為50~200r/min,攪拌時間2min~15min。
9.根據權利要求1所述的一種等離子體處理改性的芳綸云母絕緣紙的制備方法,其特征在于,步驟(9)中濕紙幅的干燥溫度95℃~105℃。
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