[發明專利]激光振鏡校正方法、裝置、計算機設備和存儲介質

有效

• 申請號: 202010794991.0
• 申請日: 2020-08-10
• 公開（公告）號: CN112059413B
• 公開（公告）日: 2022-07-05
• 發明（設計）人: 劉成;趙鵬升;史磊;尹建剛;高云峰
• 申請（專利權）人: 大族激光科技產業集團股份有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;B23K26/064;B23K26/362;B23K26/70
• 代理公司: 深圳中細軟知識產權代理有限公司 44528
• 代理人: 唐楠

1.一種激光振鏡校正方法，其特征在于，應用于激光加工設備，所述激光加工設備包括加工平臺，所述方法包括：

在所述加工平臺上設置校正板；

預設實體標準膜板，所述實體標準膜板上設有標準標識圖形；

按照所述實體標準膜板上的標準標識圖形的軌跡，在所述校正板上進行激光標記，得到待校正圖形；

將所述實體標準膜板覆蓋在所述校正板上，獲取標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差；包括：將所述實體標準膜板覆蓋在所述校正板上，對所述標準標識圖形和所述待校正圖形進行視覺提取，得到目標圖形；采用模板匹配的方法，根據所述目標圖形計算得到所述標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差；

按照所述位置誤差對所述激光振鏡的位置參數進行補償，以實現對所述激光振鏡的校正。

2.根據權利要求1所述的激光振鏡校正方法，所述校正板下方設置有呈水平狀態的基板，用于保證所述校正板呈平整狀態。

3.根據權利要求2所述的激光振鏡校正方法，其特征在于，所述基板的中心與所述激光振鏡的掃描加工中心重合。

4.根據權利要求1所述的激光振鏡校正方法，其特征在于，所述采用模板匹配的方法，根據所述目標圖形計算得到所述標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差，包括：

將所述目標圖形中的標準標識圖形作為模板圖像，通過預設的匹配度量方法，將所述模板圖像與所述目標圖形中的待校正圖形進行匹配；

根據匹配結果確定所述標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差。

5.根據權利要求1所述的激光振鏡校正方法，其特征在于，所述標準標識圖形為呈矩陣排布的預設子標識圖形構成的圖形，或者為實體標準膜板四角與中心位置構成的圖形，或者為位于所述實體標準膜板四角與中心位置的呈矩陣排布的預設子標識圖形構成的圖形。

6.一種激光振鏡校正裝置，其特征在于，應用于激光加工設備，所述激光加工設備包括加工平臺，所述裝置包括：

標記模塊，用于在所述加工平臺上設置校正板，且預設實體標準膜板后，按照所述實體標準膜板上的標準標識圖形的軌跡，在所述校正板上進行激光標記，得到待校正圖形；所述實體標準膜板上設有標準標識圖形；

誤差確定模塊，用于將所述實體標準膜板覆蓋在所述校正板上，獲取標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差；包括：將所述實體標準膜板覆蓋在所述校正板上，對所述標準標識圖形和所述待校正圖形進行視覺提取，得到目標圖形；采用模板匹配的方法，根據所述目標圖形計算得到所述標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差；

校正模塊，用于按照所述位置誤差對所述激光振鏡的位置參數進行補償，以實現對所述激光振鏡的校正。

7.根據權利要求6所述的激光振鏡校正裝置，其特征在于，所述誤差確定模塊，包括：

目標圖形獲取單元，用于將所述實體標準膜板覆蓋在所述校正板上，對所述標準標識圖形和所述待校正圖形進行視覺提取，得到目標圖形；

誤差確定單元，用于采用模板匹配的方法，根據所述目標圖形計算得到所述標準標識圖形與待校正圖形之間的位置誤差。

8.一種計算機設備，包括存儲器和處理器，所述存儲器存儲有計算機程序，所述計算機程序被所述處理器執行時，使得所述處理器執行如權利要求1至5中任一項所述方法的步驟。

9.一種計算機可讀存儲介質，存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時，使得所述處理器執行如權利要求1至5中任一項所述方法的步驟。