[發明專利]一種顯示裝置、其制作方法及像素界定層的制作方法在審
| 申請號: | 202010794869.3 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN114078902A | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發明(設計)人: | 穆琳佳;金南德 | 申請(專利權)人: | 海信視像科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 盧志娟 |
| 地址: | 266555 山東省青*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示裝置 制作方法 像素 界定 | ||
本發明公開了一種顯示裝置、其制作方法及像素界定層的制作方法,每次在像素區域內噴墨打印功能層或發光層之前,對像素界定層遠離基板的部分區域進行疏液性處理,從而使得像素界定層的上半部分具有疏液性,阻擋墨水溢出像素區域;同時本發明實施例不僅對像素界定層的頂部進行疏液性處理,還可以對側壁上半部分的不同深度也相應地進行疏液性處理,從而避免打印的墨水在像素界定層的側壁上造成粘連而造成的膜層邊緣高中間低的情形,由此保證膜層的平整性。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種顯示裝置、其制作方法及像素界定層的制作方法。
背景技術
有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode,簡稱OLED)具有能耗低、響應速度快、視角寬、更輕薄且具有柔韌性等優點,是一種極具潛力的顯示技術。
噴墨打印法制作OLED器件可以有效降低成本,在應用于大面積顯示裝置領域具有明顯優勢。噴墨打印過程中,打印墨水的浸潤性和鋪展性決定了成膜質量,對器件性能影響至關重要。在理想狀態下,打印墨水需要平整鋪展在像素界定層分隔出的像素區域內,且像素界定層的上部還需要具有疏液性,避免打印墨水溢出像素區域造成污染和混色。
然而目前的像素界定層僅在其上表面具有疏液性,在完成第一層功能層的打印和干燥后,像素界定層的疏液性通常已消失或明顯減弱,在打印其它功能層的墨水時,像素界定層無法有效阻擋墨水溢出。
發明內容
本發明一些實施例中,每次在像素區域內噴墨打印功能層或發光層之前,對像素界定層遠離基板的部分區域進行疏液性處理,從而使得像素界定層的上半部分具有疏液性,阻擋墨水溢出像素區域;同時本發明實施例不僅對像素界定層的頂部進行疏液性處理,還可以對側壁上半部分的不同深度也相應地進行疏液性處理,從而避免打印的墨水在像素界定層的側辟上造成粘連而造成的膜層邊緣高中間低的情形,由此保證膜層的平整性。
本發明一些實施例中,對像素界定層進行疏液性處理之前,在像素界定層背離基板的一側設置一個掩膜板,該掩膜板將像素區域和像素界定層的下半部分擋住,對應像素界定層的上半部分具有開口,像素界定層背離基板的上半部分會插入至掩膜板的開口中。當設置好掩膜板的位置之后,再對掩膜板所暴露出的像素界定層進行疏液性處理。這樣可以使像素界定層的頂部以及側壁的上半部分均具有疏液性,而在像素區域以及被掩膜板所遮擋的像素界定層的下半部分仍然保持親液性。在經過這樣的疏液性處理之后,像素區域內已形成的功能層或發光層不會被破壞,且在已形成的功能層上繼續打印墨水時,像素區域內的膜層具有親液性,可以保證墨水在像素區域內平整鋪展;像素界定層具有疏液性,可以避免打印墨水溢出像素區域造成污染和混色。
本發明一些實施例中,隨著噴墨打印的膜層數量的增加,掩膜板與基板之間的距離增大,掩膜板的開口的尺寸減小,掩膜板暴露出的像素界定層的區域減小。在OLED器件的制備過程中,像素區域內功能膜層總厚度逐漸增加,為了使掩膜板更加適應像素區域的尺寸,此時可以調節掩膜板的開口尺寸,使掩膜板的開口露出的像素界定層部分逐漸減少,由此可以更準確的控制像素界定層的親液和疏液部分,保證每一個打印的功能層膜層均平整。
本發明一些實施例中,在首次進行噴墨打印之前,先對基板進行親液性處理,以使像素區域內的膜層具有親液性;再對經過親液性處理后的基板進行疏液性處理,以使像素界定層遠離基板的部分區域具有疏液性。像素區域內的膜層具有親液性,有利于打印墨水在像素區域內成膜;而像素界定層具有疏液性,可以阻擋墨水的溢出,避免污染和混色的問題。
本發明一些實施例中,空穴注入層、空穴傳輸層和發光層采用噴墨打印的方式進行制作。
本發明一些實施例中,電子傳輸層和電子注入層采用蒸鍍的方式進行制作。
本發明一些實施例中,像素界定層的材料采用丙烯酸類樹脂或聚酰亞胺樹脂。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





