[發明專利]閥裝置

在審

• 申請號: 202010794286.0
• 申請日: 2020-08-10
• 公開（公告）號: CN111795200A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 吳松;蔣曉紅;曹月秋;曹曉寧;宋成良;張浩然;張克楠;李洪武;吳鵬;談效龍;甄玉龍;張志國;高鳳彬;荀明;赫鑫
• 申請（專利權）人: 鞍山電磁閥有限責任公司
• 主分類號: F16K31/06
• 分類號: F16K31/06;F16K1/32;F16K1/36;F16K27/02;F16K49/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 李翠

本申請提供了一種閥裝置，涉及電磁閥領域，包括：第一開口部和第二開口部，二者均設置于主體并用于導通介質；閥裝置的結構被設計為和/或閥裝置的尺寸被設計為使得閥裝置所能夠導通的介質的溫度小于或者等于350攝氏度，以及使得閥裝置所能夠導通的介質的壓力小于或者等于CL2500磅級。本申請提供的閥裝置，提高了閥裝置適用的介質溫度和壓力范圍，因此提高了閥裝置的適用性，因此一定程度上解決了現有技術中由于適用的介質溫度和壓力范圍較低，限制了產品在高溫場合和/或高壓場合的使用，導致電磁比例調節閥具有低適用性。

技術領域

本申請涉及電磁閥領域，尤其是涉及一種閥裝置。

背景技術

現有技術中的電磁比例調節閥主要用于常溫常壓場合，適用的介質溫度通常在120℃以下，適用的介質壓力通常在6.3MPa以下。因此，由于適用的介質溫度和壓力范圍較低，限制了產品在高溫場合和/或高壓場合的使用，導致電磁比例調節閥具有低適用性。

發明內容

有鑒于此，本申請提供一種閥裝置，目的在于，一定程度上解決以上技術問題。

本申請提供一種閥裝置，所述閥裝置包括：

主體，形成有容納部；

閥芯機構，被容納在所述容納部內，并且所述閥芯機構的至少部分能夠在所述容納部內運動；

第一開口部和第二開口部，二者均設置于所述主體，在所述閥芯機構的位置被設置為使得所述第一開口部和所述第二開口部導通的狀態下，介質能夠自所述第一開口部和所述第二開口部中的一者流向所述第一開口部和所述第二開口部中的另一者；所述閥裝置的結構被設計為和/或所述閥裝置的尺寸被設計為使得所述閥裝置所能夠導通的所述介質的溫度小于或者等于350攝氏度，以及使得所述閥裝置所能夠導通的所述介質的壓力小于或者等于CL2500磅級。

優選地，所述主體包括：

閥體機構，所述第一開口部和所述第二開口部形成于所述閥體機構，所述閥體機構形成有所述容納部的第一部分；

屏蔽機構，包括彼此連接的第一屏蔽構件和第二屏蔽構件，所述第一屏蔽構件和所述第二屏蔽構件共同限定所述容納部的第二部分；所述屏蔽機構和所述閥體機構連接，使得所述容納部的第一部分和所述容納部的第二部分連通；

所述介質流入所述第一開口部和所述第二開口部中的一者的方向與所述介質流出所述第一開口部和所述第二開口部中的另一者的方向彼此垂直；

所述閥芯機構包括第一閥芯組件和第二閥芯組件，所述閥裝置包括驅動機構，所述驅動機構經由所述第二閥芯組件驅動所述第一閥芯組件在所述容納部內運動，使得所述第一閥芯組件的部分能夠用于導通所述第一開口部和所述第二開口部，以及斷開所述第一開口部和所述第二開口部之間的導通。

優選地，所述第一屏蔽構件形成有第一圓筒部，所述第二屏蔽構件形成有第二圓筒部，所述第一圓筒部和所述第二圓筒部二者被安裝為使得二者同軸；

所述第一圓筒部和所述第二圓筒部二者形成有相同的內徑，所述第一屏蔽構件和所述第二屏蔽構件在所述第一圓筒部的軸向方向上的長度與所述內徑的比值被定義為所述屏蔽機構的長徑比；

在所述第一屏蔽構件和所述第二屏蔽構件均以整體成型的工藝制造的情況下，所述長徑比被設計為8至10。

優選地，所述第一屏蔽構件在所述第一圓筒部的軸向方向上的一端的外側部形成有沿著所述第一圓筒部的徑向方向向外延伸的法蘭部，所述法蘭部與所述閥體機構對接；

所述第一屏蔽構件的在所述第一圓筒部的軸向方向上的兩端之間的外側部形成有多個凸出的第一散熱部，當所述第一屏蔽構件沿著所述第一圓筒部的軸向投影于垂直于所述第一圓筒部的軸向的平面時，所述散熱部的投影與所述法蘭部的投影重合或者所述第一散熱部的投影落在所述法蘭部的投影內。