[發明專利]計算上高效的基于X射線的疊蓋測量系統與方法

在審

• 申請號: 202010794135.5
• 申請日: 2016-04-28
• 公開（公告）號: CN111948239A
• 公開（公告）日: 2020-11-17
• 發明（設計）人: J·亨奇;A·舒杰葛洛夫;M·貝克曼
• 申請（專利權）人: 科磊股份有限公司
• 主分類號: G01N23/207
• 分類號: G01N23/207;H01L21/66
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 劉麗楠

1.一種疊蓋計量目標，其包括：

第一結構，其安置于在平面襯底的表面上方的第一高度處制作的第一層中；及

第二結構，其安置于在所述平面襯底的所述表面上方的第二高度處制作的第二層中，使得所述第二結構在平行于所述平面襯底的所述表面的第一方向上與所述第一結構偏移達第一疊蓋參數值，

其中所述第一結構、所述第二結構或這兩者是不對稱的，且其中所述疊蓋計量目標使來自多個不同入射角及多個不同方位角的入射x射線輻射衍射，使得與多個衍射級中的每一x射線衍射級相關聯的所測量強度被調制。

2.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其進一步包括：

第三結構，其安置于在所述平面襯底的所述表面上方的第三高度處制作的第三層中，使得所述第三結構在平行于所述平面襯底的所述表面的所述第一方向上與所述第一結構及所述第二結構分別偏移達第二疊蓋參數值及第三疊蓋參數值，其中所述第一高度與所述第二高度之間的第一間隔距離、所述第一高度與所述第三高度之間的第二間隔距離及所述第二高度與所述第三高度之間的第三間隔距離為相互不同的獨立距離。

3.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構為周期性的且具有第一周期性，且其中所述第二結構為周期性的且具有第二周期性，其中所述第一周期性及所述第二周期性經選擇使得與所述第一結構相關聯的第一衍射級數以相長方式與所述第二結構相關聯的第二衍射級數干涉。

4.根據權利要求3所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構的所述周期性的方向與所述第二結構的周期性的方向對準。

5.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構為周期性的且具有第一周期性，且其中所述第二結構為周期性的且具有第二周期性，其中所述第一周期性是固定值的第一整數倍數且所述第二周期性是所述固定值的第二整數倍數。

6.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構、所述第二結構或這兩者是非周期性的。

7.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述疊蓋計量目標是設計規則目標。

8.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述疊蓋計量目標安置在裸片中。

9.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構在平行于所述平面襯底的平面表面的至少一個方向上是空間周期性的。

10.根據權利要求1所述的疊蓋計量目標，其中所述第一結構、所述第二結構或這兩者在兩個方向上是空間周期性的。

11.根據權利要求10所述的疊蓋計量目標，其中所述兩個方向是正交的。

12.一種疊蓋計量目標，其包括：

第一結構，其安置于在平面襯底的表面上方的第一高度處制作的第一層中；及

第二結構，其安置于在所述平面襯底的所述表面上方的第二高度處制作的第二層中，使得所述第二結構在平行于所述平面襯底的所述表面的第一方向上與所述第一結構偏移達第一疊蓋參數值，

其中所述第一結構在第一方向上是空間周期性的，其中所述第二結構在不同于所述第一方向的第二方向上是空間周期性的，且其中所述疊蓋計量目標使來自多個不同入射角及多個不同方位角的入射x射線輻射衍射，使得與多個衍射級中的每一x射線衍射級相關聯的所測量強度被調制。

13.根據權利要求12所述的疊蓋計量目標，其進一步包括：

第三結構，其安置于在所述平面襯底的所述表面上方的第三高度處制作的第三層中，使得所述第三結構在平行于所述平面襯底的所述表面的所述第一方向上與所述第一結構及所述第二結構分別偏移達第二疊蓋參數值及第三疊蓋參數值，其中所述第一高度與所述第二高度之間的第一間隔距離、所述第一高度與所述第三高度之間的第二間隔距離及所述第二高度與所述第三高度之間的第三間隔距離為相互不同的獨立距離。