[發明專利]一種制備碳化鉬催化材料的方法

有效

• 申請號: 202010786149.2
• 申請日: 2020-08-06
• 公開（公告）號: CN111905784B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 黃濤;宋東平;戴宇星;金俊勛;杜晶;劉龍飛;周璐璐
• 申請（專利權）人: 常熟理工學院
• 主分類號: B01J27/22
• 分類號: B01J27/22;B01J37/34;B01J19/08;C25B1/27;C25B11/075;C01B32/949
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 王艷

1.一種利用低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，所述低溫等離子體處理反應器包括低溫等離子體高壓接線端、針狀電極、進樣口、反應槽、低溫等離子體低壓接地端、曝氣盤、空氣泵和氣體混合箱，所述高壓接線端與多個并排的針狀電極一端相連，多個針狀電極的另一端垂直深入反應槽內，所述反應槽底部設置有曝氣盤，所述曝氣盤與空氣泵相連，所述空氣泵與氣體混合箱相連通，所述氣體混合箱外部分別設有氫氣、氬氣和甲烷氣體的進氣裝置，并通過流量控制閥控制，其特征在于，包括以下步驟：

1）稱取六羰基鉬粉末，進行研磨1~3小時，得六羰基鉬活化細粉末；

2）將所述的低溫等離子體處理反應器中的曝氣盤開啟，通入氫氣和氬氣混合氣體；

3）將六羰基鉬活化細粉末從進樣口裝入反應槽中，隨后進行低溫等離子體照射1~3小時，得還原鉬粉；

4）停止曝氣和低溫等離子體照射，取出還原鉬粉，研磨1~3小時，開啟反應槽中曝氣盤，通入甲烷和氬氣混合氣體，然后將研磨后的還原鉬粉從進樣口裝入反應槽中，進行低溫等離子體照射1~3小時，得碳化鉬催化劑。

2.根據權利要求1所述的低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，其特征在于，所述步驟1）中六羰基鉬活化細粉末的粒徑為1~500nm。

3.根據權利要求1所述的低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，其特征在于，所述步驟2）中氫氣與氬氣體積比為4~12:100。

4.根據權利要求1所述的低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，其特征在于，所述步驟3）中低溫等離子體作用電壓為5~50kV。

5.根據權利要求1所述的低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，其特征在于，所述步驟4）甲烷和氬氣體積比為20~30:100。

6.根據權利要求1所述的低溫等離子體處理反應器制備碳化鉬催化材料的方法，其特征在于，所述步驟4）研磨后的還原鉬粉粒徑為1~200nm。