[發明專利]導彈模擬發射裝置

有效

• 申請號: 202010785232.8
• 申請日: 2020-08-06
• 公開（公告）號: CN112161531B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 朱伯立
• 申請（專利權）人: 北京振華領創科技有限公司
• 主分類號: F42B35/02
• 分類號: F42B35/02;F41A31/00
• 代理公司: 北京市鼎立東審知識產權代理有限公司 11751
• 代理人: 陳佳妹;賈滿意

1.一種導彈模擬發射裝置，其特征在于，包括試驗平臺、導軌、模擬導彈、導彈安裝架、氣壓推力系統、氣壓阻力系統及空氣壓縮機；

所述試驗平臺為方體結構框架；

所述導軌固定安裝在所述試驗平臺上；

所述導彈安裝架上部和所述模擬導彈固定連接，所述導彈安裝架下部和所述導軌滑動連接；

所述氣壓推力系統設置在所述模擬導彈后端；

所述氣壓阻力系統設置在所述模擬導彈前端；

所述氣壓推力系統和所述氣壓阻力系統均與所述空氣壓縮機氣路連接；所述模擬導彈及所述導彈安裝架能夠在所述氣壓推力系統和所述氣壓阻力系統之間往復運動；

所述氣壓推力系統包括第一貯氣瓶、第一氣源處理器、第一氣缸及活塞桿；所述第一貯氣瓶連通所述空氣壓縮機，所述第一氣源處理器的一端連通所述第一貯氣瓶，另一端連通所述第一氣缸，所述活塞桿在所述第一氣缸內活塞運動，所述活塞桿和所述模擬導彈相接觸；

所述氣壓阻力系統包括第二貯氣瓶、第二氣源處理器、第二氣缸及緩沖部；所述第二貯氣瓶連通所述空氣壓縮機，所述第二氣源處理器的一端連通所述第二貯氣瓶，另一端連通所述第二氣缸，所述緩沖部和所述第二氣缸滑動連接，且所述緩沖部能夠和所述模擬導彈彈頭接觸；

所述第二氣缸為無桿氣缸，所述第二氣缸的個數為兩個及以上，且互相平行設置，所述模擬導彈、所述導彈安裝架設置在兩個及以上所述第二氣缸之間，且所述第二氣缸的安裝位置不與所述模擬導彈的移動軌跡相干涉；

所述試驗平臺鄰近所述氣壓阻力系統的一端架設有目標靶和觀測裝置，所述模擬導彈的彈頭為光電制導導引頭，所述觀測裝置能夠對所述模擬導彈的彈頭進行圖像成像并監測所需的試驗參數。

2.根據權利要求1所述的導彈模擬發射裝置，其特征在于，所述氣壓推力系統還包括第一空氣濾清器、第一氣壓表及第一電磁閥；

所述第一空氣濾清器相連所述第一氣壓表且一同安裝在所述第一貯氣瓶和所述第一氣源處理器之間，所述第一電磁閥設置在所述第一空氣濾清器和所述第一氣缸之間；

所述氣壓阻力系統還包括第二空氣濾清器、第二氣壓表及第二電磁閥；

所述第二空氣濾清器和所述第二氣壓表相連且一同設置在所述第二貯氣瓶和所述第二氣源處理器之間，所述第二電磁閥設置在所述第二空氣濾清器和所述第二氣缸之間。

3.根據權利要求1所述的導彈模擬發射裝置，其特征在于，所述緩沖部包括滑塊及阻尼件；

所述滑塊和所述第二氣缸滑動連接，且個數和所述第二氣缸相等；

所述阻尼件固定連接鄰近所述模擬導彈兩側的所述滑塊，其余相鄰的所述滑塊之間固定連接。

4.根據權利要求3所述的導彈模擬發射裝置，其特征在于，所述活塞桿前端設置有沖擊錘，所述沖擊錘前端為弧型結構，和所述模擬導彈彈尾相接觸。

5.根據權利要求4所述的導彈模擬發射裝置，其特征在于，所述沖擊錘前端、所述阻尼件鄰近所述模擬導彈的一端以及所述第二氣缸的兩端均設置有與其結構匹配的緩沖墊。

6.根據權利要求1-5任一項所述的導彈模擬發射裝置，其特征在于，還包括第一固定架及第二固定架；

所述第一固定架上部和所述氣壓推力系統固定連接，下部和所述試驗平臺固定連接；

所述第二固定架上部和所述氣壓阻力系統固定連接，下部和所述試驗平臺固定連接，且所述第二固定架和所述第一固定架不相干涉；

所述試驗平臺底部設置有移動部和可調式支撐架，所述移動部和所述可調式支撐架只有一個與地面接觸。