[發(fā)明專利]一種菲涅爾抗光投影幕及其制造方法

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• 申請日: 2020-08-06
• 公開（公告）號: CN112099303A
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廖明輝;朱研玲;黃文君
• 申請（專利權(quán)）人: 廣西佳視微電子科技有限公司
• 主分類號: G03B21/602
• 分類號: G03B21/602;G03B21/60
• 代理公司: 南寧智卓專利代理事務(wù)所(普通合伙) 45129
• 代理人: 譚月萍;鄧世江

1.一種菲涅爾抗光投影幕，其特征在于：所述抗光投影幕包括基材層、表面抗劃傷層、著色層、擴(kuò)散層、菲涅爾透鏡層和吸光層，在所述基材層的表面設(shè)置所述表面抗劃傷層，在所述基材層的背面依次向后設(shè)置所述著色層、擴(kuò)散層、菲涅爾透鏡層和吸光層，所述菲涅爾透鏡層的斷面為接近90°的連續(xù)三角形鋸齒紋理結(jié)構(gòu)；每個三角形鋸齒紋理結(jié)構(gòu)具有平行粘結(jié)在擴(kuò)散層表面的水平底面、與擴(kuò)散層表面呈傾斜狀態(tài)設(shè)置的反光傾斜面和接近垂直于擴(kuò)散層表面的豎向斷面，在所述反光傾斜面的表面粘結(jié)有反射層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種菲涅爾抗光投影幕，其特征在于：所述基材層為柔性可卷曲的透明薄膜基材層和灰色薄膜基材層相互粘結(jié)而成，在所述透明薄膜基材層的背面噴涂所述表面抗劃傷層，在所述透明薄膜基材層的表面噴涂所述黑色薄膜基材層，在該黑色薄膜基材層的表面上連續(xù)粘結(jié)所述著色層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種菲涅爾抗光投影幕，其特征在于：所述透明色薄膜材料為PET薄膜、PMMA薄膜、PS薄膜、TPU薄膜、PP薄膜、COP薄膜和PE薄膜中的一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種菲涅爾抗光投影幕，其特征在于：所述反射層由粒徑為10nm-100nm的鋁、銅或銀顆粒制成的反光層，所述反射層的厚度為200nm至2000nm之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種菲涅爾抗光投影幕，其特征在于：所述擴(kuò)散層為添加了擴(kuò)散粒子的透明樹脂材料，該擴(kuò)散粒子由粒徑為10nm-200nm的金屬散射粒子或玻珠粉散射粉體組成。

6.一種菲涅爾抗光投影幕的制造方法，其特征在于：包括以下步驟：

步驟1：將基材層的灰色薄膜基材層原料顆粒和透明薄膜基材層原料顆粒進(jìn)行高溫熔化并通過共擠、擠壓形成柔性可卷曲基材層，在然后在共擠出形成的透明薄膜基材層的表面通過涂布或噴砂工藝覆著一層表面抗劃傷層；

步驟2：然后取著色層的顏料漿料和擴(kuò)散層的擴(kuò)散材料并各自攪拌均勻，然后在基材層表面采用兩層共擠方式一次擠出成型，在共擠出形成的灰色薄膜基材層的表面依次涂布一層著色層和擴(kuò)散層；

步驟3：在擴(kuò)散層表面采用高透過率熱塑性光學(xué)樹脂進(jìn)行涂布濕膜，再通過精密模具模壓或滾壓、固化成型所述菲涅爾透鏡層，然后利用噴涂、電鍍、絲印和輥印工序覆蓋一層致密的反射層；

步驟4：利用平面菲涅爾模具將步驟制成的菲涅爾透鏡層進(jìn)行壓制，從而形成菲涅爾紋理結(jié)構(gòu)，并將反射層壓制成型；

步驟5：剝離平面菲涅爾模具，則獲得菲涅爾屏幕雛形，在菲涅爾屏幕的紋理結(jié)構(gòu)和反射層相應(yīng)的位置表面涂布所述吸光層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾抗光投影幕的制造方法，其特征在于：在步驟2中，所述擴(kuò)散層為添加了擴(kuò)散粒子的透明樹脂材料，該擴(kuò)散粒子為金屬散射粒子或玻珠粉散射粉體，所述擴(kuò)散粒子添加量為0.01％wt～5％wt，所述顏料漿料的添加量為0.01％wt～10％wt，余量為透明樹脂材料。