[發(fā)明專利]殼體組件及其制備方法、電子設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010779194.5 | 申請日: | 2020-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN111901996B | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳益明;楊光明 | 申請(專利權)人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/02 | 分類號: | H05K5/02;B44F1/08;B44F5/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 戴冬瑾 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 殼體 組件 及其 制備 方法 電子設備 | ||
1.一種制備殼體組件的方法,其特征在于,包括:
提供基體;
在所述基體的一側依次形成第一底漆層、色漆層、鍍膜漆層、光學鍍膜層;以及
利用鐳雕處理方法在所述第一底漆層、所述色漆層和所述鍍膜漆層的至少之一上形成紋理結構;
其中,所述第一底漆層的厚度為20~30μm,所述色漆層的厚度為8~12μm,所述鍍膜漆層的厚度為20~30μm,所述光學鍍膜層的厚度為30~300nm,所述紋理結構的深度為1~10μm,所述紋理結構的寬度為30~60μm。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,進一步包括以下步驟的至少之一:
設置第二底漆層,所述第二底漆層位于所述基體和所述第一底漆層之間,所述第二底漆層的厚度為3~5μm;以及
設置面漆層,所述面漆層位于所述光學鍍膜層遠離所述鍍膜漆層的一側,所述面漆層的厚度為3~8μm。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述第一底漆層、所述色漆層、所述第二底漆層是由PU型樹脂漆烘烤形成的,
所述烘烤的溫度為70~80℃,所述烘烤的時間為20~40min。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述鍍膜漆層為UV型樹脂漆經(jīng)UV能量固化形成的,所述固化使用的UV能量為1000~1200mJ/cm2,且所述鍍膜漆層包含納米氧化物,所述納米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述光學鍍膜層含有鈦、硅、鋯的至少之一,且形成所述光學鍍膜層的溫度為40~60℃。
6.根據(jù)權利要求2所述的方法,其特征在于,所述面漆層為UV型樹脂漆經(jīng)UV能量固化形成的,所述固化使用的UV能量為800~1200mJ/cm2。
7.根據(jù)權利要求1所述的方法,其特征在于,所述基體包括底面以及環(huán)繞所述底面的多個側壁,至少一個所述側壁和所述底面之間的折彎角大于70度。
8.一種殼體組件,其特征在于,包括:
基體;
在所述基體的一側依次層疊的第一底漆層、色漆層、鍍膜漆層、光學鍍膜層;
其中,所述第一底漆層、所述色漆層、所述鍍膜漆層的至少之一上具有紋理結構;
其中,所述第一底漆層的厚度為20~30μm,所述色漆層的厚度為8~12μm,所述鍍膜漆層的厚度為20~30μm,所述光學鍍膜層的厚度為30~300nm,所述紋理結構的深度為1~10μm,所述紋理結構的寬度為30~60μm。
9.根據(jù)權利要求8所述的殼體組件,其特征在于,所述紋理結構是利用鐳雕處理方法形成的。
10.根據(jù)權利要求8所述的殼體組件,其特征在于,進一步包括以下步驟的至少之一:
設置第二底漆層,所述第二底漆層位于所述基體和所述第一底漆層之間,所述第二底漆層的厚度為3~5μm;以及
設置面漆層,所述面漆層位于所述光學鍍膜層遠離所述鍍膜漆層的一側,所述面漆層的厚度為3~8μm。
11.根據(jù)權利要求8所述的殼體組件,其特征在于,所述鍍膜漆層包含納米氧化物,所述納米氧化物含有Zr、Ti、Si的至少之一。
12.一種電子設備,其特征在于,包括:
殼體組件,所述殼體組件為權利要求8~11任一項所述的,或者為利用權利要求1~7任一項所述的方法獲得的;以及
主板和顯示屏幕,所述主板和所述顯示屏幕收納于所述殼體組件中。
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