[發(fā)明專利]一種采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010778819.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114062402A | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭俊廷;李全生;張凱;楊明浩;郭洋楠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 神華神東煤炭集團(tuán)有限責(zé)任公司;北京低碳清潔能源研究院;國(guó)家能源投資集團(tuán)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | G01N23/046 | 分類號(hào): | G01N23/046 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;何嬌 |
| 地址: | 017209 內(nèi)蒙古自治區(qū)鄂爾多斯*** | 國(guó)省代碼: | 內(nèi)蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 影響 根系 形態(tài) 觀測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,包括:
玻璃罩,其上設(shè)置有多個(gè)孔洞;
控制臺(tái),所述玻璃罩罩設(shè)在所述控制臺(tái)上;
多個(gè)升降臺(tái),其均位于所述玻璃罩內(nèi)且緊密排列在所述控制臺(tái)上;所述升降臺(tái)上為待觀測(cè)的土壤及植被;
微根管,設(shè)置在所述孔洞上;以及
X射線層析成像系統(tǒng),其位于所述控制臺(tái)附近。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,所述玻璃罩由四塊鋼化玻璃沿豎直方向圍置而成,每塊玻璃上均設(shè)置有豎向排列的多個(gè)孔洞。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,相鄰玻璃之間保持密封,且玻璃罩與控制臺(tái)之間的連接處保持密封。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,所述控制臺(tái)能夠旋轉(zhuǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,所述控制臺(tái)與PC端連接,通過(guò)PC端操縱控制臺(tái)旋轉(zhuǎn)以及控制特定的升降臺(tái)進(jìn)行升降。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,所述升降臺(tái)為液壓升降臺(tái)、機(jī)械升降臺(tái)或電磁升降臺(tái)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置,其特征在于,所述玻璃為透明鋼化玻璃。
8.一種采用根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀測(cè)裝置實(shí)施的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一,布設(shè)控制臺(tái),并在控制臺(tái)上方安裝N×N個(gè)升降臺(tái),相鄰升降臺(tái)緊密排列,其中N為大于5的自然數(shù);
步驟二,將玻璃罩安裝在控制臺(tái)上,在玻璃罩四面分別預(yù)制多個(gè)豎向排列的孔洞;
步驟三,將微根管安裝在玻璃罩預(yù)先定制的孔洞上,并在玻璃罩外進(jìn)行遮光處理;
步驟四,在玻璃罩內(nèi)、升降臺(tái)上放入土壤,土壤高度在最上方孔洞以上,將需要觀測(cè)的植被植入土壤內(nèi),并保證其自然生長(zhǎng);
步驟五,在控制臺(tái)附近布設(shè)X射線層析成像系統(tǒng),以拍攝根系;
步驟六,根據(jù)研究目的和試驗(yàn)設(shè)計(jì),通過(guò)控制臺(tái)操縱升降臺(tái)進(jìn)行縮降,模擬開采后根系部位的給定變形量或動(dòng)態(tài)變形量;
步驟七,通過(guò)微根管觀測(cè)開采引起的地表移動(dòng)變形對(duì)植物根系的影響,并使用X射線層析成像系統(tǒng)觀測(cè)植物在地表移動(dòng)變形后或變形過(guò)程中的根系形態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其特征在于,在步驟七中,操縱控制臺(tái)進(jìn)行旋轉(zhuǎn),使X射線層析成像系統(tǒng)從不同方位進(jìn)行觀測(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的方法,其特征在于,根據(jù)研究需要同時(shí)調(diào)節(jié)模擬環(huán)境的溫度或濕度。
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G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光
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