[發明專利]一種大型真空輝光發電納米薄膜涂層設備及其工作方式

在審

• 申請號: 202010778647.2
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN112011772A
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 周樹法
• 申請（專利權）人: 昆山立特納米電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 蘇州市方略專利代理事務所(普通合伙) 32267
• 代理人: 劉燕嬌

一種大型真空輝光發電納米薄膜涂層設備及其工作方法，包括滑閥泵、預抽閥、前級閥、擴散閥、高閥、真空鍍膜室，所述真空鍍膜室包括鍍膜室主體、旋轉掛架結構和鍍膜室門結構，所述旋轉掛架結構設置在鍍膜室主體中間位置，所述鍍膜室門結構設置在鍍膜室主體側邊；所述鍍膜室門結構為雙層結構，所述隔層中設置有脈沖電磁發生器。在雙層結構的鍍膜室門結構中間層設置脈沖電磁發生器，使腔內等離子能量成倍的加強，從而大大提高了鍍膜的沉積速度，提高了真空鍍膜室中被鍍工件從上到下的均勻性能。

技術領域

本發明涉及納米鍍膜領域，具體是一種大型真空輝光發電納米薄膜涂層設備及其工作方法。

背景技術

為了改善一些機械零部件的表面性能，以達到減少振動、降低噪聲、減小摩擦、延長壽命等目的，多在零件表面進行納米薄膜涂層工藝處理，及由尺寸為納米數量級的組元鑲嵌于基體所形成一種耐磨、耐腐蝕涂層的薄膜材料。

由于納米薄膜涂層工藝比較復雜，目前使用的設備存在很大不足：1）現有的設備，由于其掛具結構的安裝比較麻煩，故目前市場上的設備高度不超過1500mm高度,這就意味著整個鍍膜鍍膜腔體比較小，其工件的裝載量少，其鍍膜效率不高；2）掛件上的工件，不同位置的鍍膜質量不一致，這就導致整體鍍膜存在涂層均勻性以及沉積速度慢等性能的缺陷，從而大大影響產品的總體耐磨性能以及使用壽命等。

發明內容

發明目的：本發明的目的是提供一種大型真空輝光發電納米薄膜涂層設備及其工作方法，解決了納米薄膜涂層設備使用時候存在的問題。

技術方案：本發明提供了一種大型真空輝光發電納米薄膜涂層設備，包括滑閥泵：泵體內裝有滑閥，滑閥內裝有偏心輪，偏心輪通到泵缸外面的軸帶動旋轉，滑閥的外圓在泵缸的表面進行滑動，滑閥上部在半圓形滑閥導軌中自由的上下滑動及左右擺動；滑閥上部是中空，氣體就通過滑閥的中空部分，被壓縮的氣體頂開排氣閥排出泵外，如此循環工作；

預抽閥：在滑閥泵啟動后，預抽閥主要用作粗抽時打開，即抽低真空時使用，高抽時關閉；

前級閥：粗抽完成關閉預抽閥后，在抽高真空時開啟使用；

擴散閥：泵體內擴散泵油經加熱蒸發成蒸汽，經導流管、噴嘴形成高速蒸汽射流作為工作介質，被抽氣體靠擴散和攜帶作用被蒸汽射流帶到泵壁，油蒸汽冷凝后返回泵底，氣體被逐級壓縮，最后被噴射級蒸汽流攜帶到前級，被前級泵抽走；

高閥：粗抽完成關閉預抽閥，打開前級閥后開啟，抽高真空時使用；

真空鍍膜室：將需涂層產品，按工藝要求懸掛在真空室內的懸架上，利用真空輝光放電，加速正離子使其轟擊靶材表面而引起的濺射現象，使靶材表面釋放出的原子和分子沉積到產品上而形成薄膜；

所述真空鍍膜室包括鍍膜室主體、旋轉掛架結構、鍍膜室門結構和輝光放電結構，所述旋轉掛架結構設置在鍍膜室主體中間位置，所述鍍膜室門結構設置在鍍膜室主體側邊；所述輝光放電結構設置在鍍膜室主體內部靠近內壁側；所述鍍膜室門結構為雙層結構，所述隔層中設置有脈沖電磁發生器。在雙層結構的鍍膜室門結構中間層設置脈沖電磁發生器，使腔內等離子能量成倍的加強，從而大大提高了鍍膜的沉積速度，提高了真空鍍膜室中被鍍工件從上到下的均勻性能。

進一步的，所述旋轉掛架結構包括旋轉電機、聯軸器、第一軸承座、第一連接軸結構、掛具結構、第二連接軸結構和第二軸承座，所述旋轉電機通過聯軸器與設置在第一軸承座內的第一連接軸結構一端連接，所述第一連接軸結構一端和第一連接軸結構遠離聯軸器的一端連接，另一端和設置在第二軸承座內的第二連接軸結構一端連接。旋轉電機通過聯軸器驅動設置在第一軸承座上的第一連接軸結構進行轉動，從而帶動通過第一連接軸結構和第二連接軸結構固定的掛具結構進行勻速轉動，從而提高了掛具結構上的工件在真空鍍膜時候的整體均勻性，大大提高了產品的良品率。