[發明專利]一種基于電子束的人工濕地污水處理系統

在審

• 申請號: 202010778165.7
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN111847801A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 盧淼;常旭;金興良;彭盛華
• 申請（專利權）人: 深圳市環境科學研究院
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F101/10;C02F101/16
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

1.一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：其包含一級處理池(9)，二級處理池(7),三級處理池(4)，后端水質檢測及中控系統(2)和電子束系統(1)；一級處理池(9)，二級處理池(7),三級處理池(4)按污水流向從上向下依次梯級設置；每級處理池的上部側面都設有進水口，底部設有出水口；一級處理池(9)的出水口經一級出水管(8)與二級處理池(7)的進水口相連,二級處理池(7)的出水口經二級出水管(5)與三級處理池(4)的進水口相連，三級處理池(4)的出水口經三級出水管(17)與后端水質檢測及中控系統(2)的進水口相連，后端水質檢測及中控系統(2)的出水口與電子束系統(1)的進水口相連；每級處理池內部都設置有布水管(19)和集水管(18)，布水管(19)位于集水管(18)上方且與處理池的進水口相連，集水管(18)與處理池的出水口相連；每級處理池內部都填充有基質層，基質層上部種植有濕地植物。

2.根據權利要求1所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：布水管(19)設計成星形形狀，由環形管和放射管組成，放射管呈星形設置在環形管周圍且與環形管相連通；放射管除一根與處理池進水口相連的為進水管外，其余均為設置有出水孔的布水放射管。

3.根據權利要求2所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：環形管和放射管的連接關系為可拆卸的連接關系。

4.根據權利要求1所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：集水管(18)設計成星形形狀，由中心管和放射管組成，放射管呈星形設置在環形管周圍且與中心管相連通，放射管與中心管上均設置有集水凹槽，凹槽內設置有布滿進水孔的隔離網。

5.根據權利要求4所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：中心管的出水口與放射管之間為斜坡面連接設計，坡度為10°-20°；中心管與放射管的連接關系為可拆卸的連接關系。

6.根據權利要求1所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：電子束系統(1)按污水流向依次設置電子束發生器腔室和紫外線燈腔室，兩腔室間用過濾網(1-4)隔開，紫外線燈(1-1)和電子束發生器(1-2)分別設置于各自腔室頂部，電子束發生器腔室底部放置單質鐵、氧化鐵、鐵磁的一種或它們組成的混合物(1-3)。

7.根據權利要求1所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：還包含旁通出水管和前端水質檢測及中控系統(10)，前端水質檢測及中控系統(10)的出水口與一級處理池(9)的進水口相連；旁通出水管一端與三級出水管(17)相連通，另一端分別經一級旁通出水管(13)與一級出水管(8)相連通及經二級旁通出水管(14)與二級出水管(5)相連通；一級旁通出水管(13)和二級旁通出水管(14)上分別設置有電動閥門(11)；三級出水管(17)設置有旁通出水口(16)且旁通出水口(16)上設置有電動閥門。

8.根據權利要求1至7所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：還包含回流管，回流泵(3)和水位計(6)；回流管一端與三級出水管(17)相連通，另一端分別經一級回流管(12)與一級出水管(8)相連通及經二級回流管(15)與二級出水管(5)相連通；一級回流管(12)和二級回流管(15)上分別設置有電動閥門(11)；能把水經一級回流管(12)和二級回流管(15)輸送回每級處理池的回流泵(3)設置在回流管上；水位計(6)設置于每級處理池的上部側面。

9.根據權利要求1至7所述一種基于電子束的人工濕地污水處理系統，其特征在于：所述一級處理池(9)種植的濕地植物主要為挺水草本類植物的皇竹草、蘆竹、紙莎草、旱傘竹，一級處理池(9)的基質層從上至下依次設置三層填料，上層為粒徑20-30mm的碎石，中層為粒徑10-20mm的陶粒，下層為粒徑5-10mm的石灰石；所述二級處理池(7)種植的濕地植物主要為挺水草本植物與漂浮植物相結合的香蒲、水蔥、水莎草、野山姜、水芹菜、水葫蘆，二級處理池(7)的基質層從上至下依次設置三層填料，上層為粒徑15-25mm的礫石，中層為粒徑10-15mm的沸石，下層為粒徑5-10mm的火山巖；所述三級處理池(4)種植的濕地植物主要為挺水草本植物的皇竹草、蘆竹、紙莎草、旱傘竹、香蒲、水蔥、水莎草、野山姜，三級處理池(4)的基質層從上至下依次設置三層鈣、鐵、鋁、鎂含量均不低于20％的填料，上層為粒徑15-25mm的頁巖，中層為粒徑10-15mm廢磚塊，下層為粒徑5-10mm的高爐渣負復合改良填料。