[發明專利]一種深紫外光頻梳產生裝置有效
| 申請號： | 202010777625.4 | 申請日： | 2020-08-05 |
| 公開（公告）號： | CN111965916B | 公開（公告）日： | 2022-06-24 |
| 發明（設計）人： | 宗楠;宋艷潔;彭欽軍;王志敏;張申金;楊峰;張豐豐;薄勇 | 申請（專利權）人： | 中國科學院理化技術研究所 |
| 主分類號： | G02F1/35 | 分類號： | G02F1/35;G02F1/37 |
| 代理公司： | 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 鄭久興 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 深紫 外光頻梳 產生 裝置 | ||
1.一種深紫外光頻梳的產生裝置，其特征在于，包括沿光路依次設置的基頻光梳光源(1)、2倍頻晶體(2)、色散器件(3)、4倍頻棱鏡耦合器件(4)、色散補償器(5)和縮束器(6)；
所述基頻光梳光源(1)，用于出射基頻光梳；
所述2倍頻晶體(2)，用于將所述基頻光梳進行二倍頻，以形成二倍頻光；
所述色散器件(3)，用于將射入其內的二倍頻光按照頻率分量的不同形成不同角度的二倍頻光，以使多種波長的二倍頻光分別以不同的角度入射到所述4倍頻棱鏡耦合器件(4)中，以補償由于寬譜引起的相位失配；
所述4倍頻棱鏡耦合器件(4)，用于將射入其內的不同頻率分量的2倍頻光進行四倍頻，以形成不同頻率分量的寬譜的四倍頻光；
所述色散補償器(5)，用于將頻率分量不同的寬譜的四倍頻光進行脈沖壓縮，以使不同頻率分量的四倍頻光平行射出至所述縮束器(6)；
所述縮束器(6)，用于將所述不同頻率分量的四倍頻光縮束成深紫外光頻梳后射出。
2.如權利要求1所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述色散器件(3)，用于將射入其內的二倍頻光按照頻率分量的不同形成不同的偏折角度，且將射入其內的二倍頻光，以處于二倍頻光的中心波長對應的相位匹配角在所述4倍頻棱鏡耦合器件(4)中傳播。
3.如權利要求1或2所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述色散器件(3)為一塊棱鏡、多塊棱鏡級聯或光柵中的一種。
4.如權利要求1或2所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述色散補償器(5)為光柵、棱鏡或啁啾鏡的一種。
5.如權利要求1或2所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述2倍頻晶體為BBO晶體、LBO晶體、CBO晶體或CLBO晶體中的一種。
6.如權利要求1或2所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述基頻光梳光源是中心波長為800nm的飛秒鈦寶石激光。
7.如權利要求1或2所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述4倍頻棱鏡耦合器件(4)包括：依次沿光路設置的入射棱鏡、四倍頻晶體和出射棱鏡。
8.如權利要求7所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述入射棱鏡和出射棱鏡的均由SiO2晶體、Al2O3晶體、SiC晶體、LiF晶體、MgF2晶體、CdF2晶體、CaF2晶體或BaF2晶體中的一種制成；
所述四倍頻晶體為KBBF、RBBF、NBBF、NSBBF、ABBF、ABF或CBF晶體中的一種。
9.如權利要求1所述的深紫外光頻梳產生裝置，其特征在于，所述4倍頻棱鏡耦合器件置于真空腔內。
10.一種深紫外光頻梳的產生裝置，其特征在于，包括沿光路依次設置的基頻光梳光源(1)、色散器件(3)、2倍頻晶體(2)、4倍頻棱鏡耦合器件(4)、色散補償器(5)和縮束器(6)；
所述基頻光梳光源(1)，用于出射基頻光梳；
所述色散器件(3)，用于將射入其內的基頻光梳按照頻率分量的不同形成多種波長的基頻光，以使多種波長的基頻光分別以不同的角度入射到所述2倍頻晶體(2)中；
所述2倍頻晶體(2)，用于將每種波長的所述基頻光進行二倍頻以形成的二倍頻光；
所述4倍頻棱鏡耦合器件(4)，用于將射入其內的不同頻率分量的二倍頻光進行四倍頻以形成不同頻率分量的寬譜的四倍頻光；
所述色散補償器(5)，用于將不同頻率分量的寬譜的四倍頻光進行深紫外激光脈沖壓縮，以使不同頻率分量的四倍頻光平行射出至所述縮束器(6)；
所述縮束器(6)，用于將所述不同頻率分量的四倍頻光整合成深紫外光頻梳后射出。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院理化技術研究所，未經中國科學院理化技術研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010777625.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
