[發(fā)明專利]一種金屬微納結構增強磁光效應的襯底

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• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN111856789A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權）人: 中山科立特光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/09
• 分類號: G02F1/09;G02B5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于，包括：基底、磁性材料層、金屬微納結構陣列，所述磁性材料層置于所述基底上，所述金屬微納結構陣列為周期性排列的金屬微納結構，所述金屬微納結構為條形，所述金屬微納結構的截面包括第一豎直部、第二豎直部、水平部，所述第一豎直部、所述水平部、所述第二豎直部依次連接，所述第一豎直部和所述第二豎直部垂直于所述水平部，所述第一豎直部和所述第二豎直部位于所述水平部的同側，所述水平部平行于所述磁性材料層的表面，所述水平部置于所述磁性材料層內(nèi)，所述第一豎直部和所述第二豎直部部分地置于所述磁性材料層內(nèi)。

2.如權利要求1所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述金屬微納結構的截面還包括矩形部。

3.如權利要求2所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述矩形部置于所述水平部的下方，所述矩形部與所述水平部不連接。

4.如權利要求2所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述矩形部位于所述水平部的上方，所述矩形部與所述水平部不連接。

5.如權利要求4所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述矩形部位于所述磁性材料層上。

6.如權利要求4所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述矩形部部分地置于所述磁性材料層內(nèi)。

7.如權利要求1-6任一項所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述基底的材料為非磁性材料。

8.如權利要求7所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述磁性材料層的材料為鈷、鉍鐵石榴石。

9.如權利要求8所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述金屬微納結構陣列的材料為金或銀。

10.如權利要求9所述的金屬微納結構增強磁光效應的襯底，其特征在于：所述第一豎直部的高度不等于所述第二豎直部的高度。