[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010777052.5
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN111987238B
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 吳令戀
• 申請（專利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 楊艇要

1.一種顯示面板，其特征在于，包括：

陣列基板，所述陣列基板包括像素發(fā)光區(qū)和設(shè)置在所述像素發(fā)光區(qū)周側(cè)的像素冗余區(qū)；

平坦層，所述平坦層設(shè)置在所述陣列基板上；

像素定義層，所述像素定義層設(shè)置在所述平坦層上，所述像素定義層上開設(shè)有位于所述像素發(fā)光區(qū)的第一開口和位于所述像素冗余區(qū)的第二開口；

有機發(fā)光層，所述有機發(fā)光層設(shè)置在所述第一開口內(nèi)；

阻隔單元，所述阻隔單元用于阻隔水氧入侵，設(shè)置在所述第二開口內(nèi)；以及

陰極，所述陰極設(shè)置在所述有機發(fā)光層和所述阻隔單元上；

封裝層，所述封裝層設(shè)置在所述陰極上，所述封裝層設(shè)置在所述像素定義層上并覆蓋所述有機發(fā)光層和所述阻隔單元；

其中，所述阻隔單元包括金屬層和金屬氧化層，所述金屬層為液態(tài)金屬層，所述金屬氧化層位于所述金屬層靠近所述封裝層的一面，所述金屬氧化層由所述金屬層氧化形成；所述金屬層的周側(cè)面與所述第二開口的口壁連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述液態(tài)金屬層為銦、鎵、錫和銦鎵共晶合金中的一種或四者中的任意組合。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述金屬層的厚度小于所述金屬氧化層的厚度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述阻隔單元包括透明的干燥劑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項所述的顯示面板，其特征在于，所述第二開口貫穿所述平坦層。

6.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在襯底上形成陣列結(jié)構(gòu)層以形成陣列基板，所述陣列基板包括像素發(fā)光區(qū)和設(shè)置在所述像素發(fā)光區(qū)周側(cè)的像素冗余區(qū)；

在所述陣列基板上依次形成平坦層和像素定義層，所述像素定義層上開設(shè)有位于所述像素發(fā)光區(qū)的第一開口和位于所述像素冗余區(qū)的第二開口；

在所述第二開口內(nèi)形成阻隔單元，所述阻隔單元用于阻隔水氧入侵；

在所述第一開口內(nèi)打印有機發(fā)光層；

在所述有機發(fā)光層和所述阻隔單元上形成陰極；

在所述像素定義層、所述有機發(fā)光層和所述阻隔單元上形成封裝層；

所述在所述第二開口內(nèi)形成阻隔單元，包括：

于無氧環(huán)境采用噴墨打印方式在所述第二開口內(nèi)打印液態(tài)金屬材料，以形成液態(tài)金屬層；

通入氧氣對所述液態(tài)金屬層裸露的表面進行氧化處理，以形成金屬氧化層，所述液態(tài)金屬層的周側(cè)面與所述第二開口的口壁連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述第二開口內(nèi)形成阻隔單元，包括：

采用噴墨打印方式在所述第二開口內(nèi)打印透明的液態(tài)干燥劑；

采用紫外照射或加熱的方式固化所述液態(tài)干燥劑。