[發(fā)明專利]焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010776085.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111883502B | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉建軍;胡海霖;郭育華;張孔;王運(yùn)龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第三十八研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L23/488 | 分類號(hào): | H01L23/488;H01L21/48;H01L21/60 |
| 代理公司: | 合肥市浩智運(yùn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34124 | 代理人: | 花錦濤 |
| 地址: | 230088 安徽省合*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 焊料 微凸點(diǎn) 陣列 制備 方法 | ||
1.一種焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
s1、貼焊片:
將焊片(2)貼合在載板(1)上;
s2、切割:
在焊片(2)上切割出焊料柱陣列(21);
s3、剝離:
加工后的焊料柱陣列(21)形成孤島,將多余的焊片(2)撕掉或剝離,只留下焊料柱陣列(21);
s4、倒裝焊接:
將載板(1)與需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)并進(jìn)行倒裝焊接,將焊料柱陣列(21)轉(zhuǎn)移到需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)上;
s5、回流:
對(duì)帶有焊料柱陣列(21)的焊盤(3)進(jìn)行回流,使焊料柱陣列(21)熔化成球,形成規(guī)則的焊料凸點(diǎn)陣列(22)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:在進(jìn)行步驟s1貼焊片之前,需對(duì)原材料進(jìn)行處理,即準(zhǔn)備所需型號(hào)和厚度的焊片(2),裁切成所需尺寸,保證焊片平整,準(zhǔn)備所需形狀和尺寸的載板(1),對(duì)表面進(jìn)行清潔處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s1中,在清潔的載板(1)上涂抹粘結(jié)劑,通過高速甩膠或刮平使其鋪展充分和均勻,將平整的焊片(2)貼合在載板(1)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s2中,用紫外、或CO2、或皮秒激光加工設(shè)備按設(shè)計(jì)圖形在焊片(2)上切割出設(shè)計(jì)尺寸的焊料柱陣列(21)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s4中,用倒裝焊接機(jī)將載板(1)與需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)并進(jìn)行倒裝焊接,將焊料柱陣列(21)轉(zhuǎn)移到需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:在步驟s4倒裝焊接中,倒裝時(shí)進(jìn)行加熱加壓,使焊料柱初步熔化,與焊盤(3)形成冶金結(jié)合,同時(shí)使焊料柱陣列(21)與載板(1)之間失粘,以實(shí)現(xiàn)焊柱從載板(1)到焊盤(3)的轉(zhuǎn)移。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s4倒裝焊接中,在焊盤(3)上涂助焊劑(4),將載板(1)與需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)上涂有涂助焊劑(4)的一側(cè)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)并進(jìn)行倒裝焊接,將焊料柱陣列(21)轉(zhuǎn)移到需制作凸點(diǎn)面陣的焊盤(3)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s4中倒裝焊接中,當(dāng)焊片(2)為AuSn焊片時(shí),采用惰性或還原氣氛保護(hù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:步驟s5中,將帶有焊料柱陣列(21)的焊盤(3)放入真空回流爐中進(jìn)行回流,使焊料柱陣列(21)熔化成球,通過自對(duì)準(zhǔn)效應(yīng)形成規(guī)則的焊料凸點(diǎn)陣列(22)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的焊料微凸點(diǎn)陣列制備方法,其特征在于:在進(jìn)行步驟s5后進(jìn)行如下步驟:
s6、清洗:
使用超聲波、溶劑清洗方式清洗掉制作過程中產(chǎn)生的雜質(zhì)。
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