[發明專利]一種涂層成膜速率的檢測方法

在審

• 申請號: 202010773836.0
• 申請日: 2020-08-04
• 公開（公告）號: CN111766271A
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 宋忠孝;陳颋
• 申請（專利權）人: 山東合創涂層技術有限公司
• 主分類號: G01N27/00
• 分類號: G01N27/00;G01B7/06;C23C16/52;C23C14/54
• 代理公司: 南京司南專利代理事務所(普通合伙) 32431
• 代理人: 葉蕙

1.一種涂層成膜速率的檢測方法，其特征在于，包括以下步驟：

一、在成膜腔室內設置檢測板、檢測模塊和處理模塊，所述處理模塊與檢測模塊信號連接；

二、將待測工件放置在檢測板上，并用鍍膜設備鍍膜，在形成膜層的過程中，用磁控裝置向待測工件施加垂直的磁場B，用電源模塊施加垂直于磁場B方向的電流I，檢測模塊用于檢測磁場B和電流I；

三、根據電流I、磁場B、以及電動勢U信息獲得待測工件成膜的厚度信息，利用霍爾效應原理，通過檢測模塊能夠對待測工件在垂直于磁場B方向和電流I方向的方向上形成感應電動勢U，其中，U＝R*I*B/d，可推出d＝R*I*B/U，R是霍爾效應中與待測工件本身有關的常數，I為通入的電流，B為磁場強度，d為待測工件的厚度，處理模塊能夠通過上述公式實時獲得金屬片厚度的變化；

四、通過計算即可以算出單位時間內待測工件的厚度變化情況，進而能夠獲得待測工件上涂層成膜速率。

2.根據權利要求1所述的一種涂層成膜速率的檢測方法，其特征在于：所述檢測板由表面鍍有絕緣層的鑄鐵材料形成，所述絕緣層的材料為氧化鋁或氟化銅。

3.根據權利要求1所述的一種涂層成膜速率的檢測方法，其特征在于：所述待測工件為多個，且等間距排列，在計算過程中，通過將多個待測工件計算結果的平均值來判斷整個成膜腔室內的待測工件實時的成膜速率。

4.根據權利要求1所述的一種涂層成膜速率的檢測方法，其特征在于：所述鍍膜設備為磁控濺射鍍膜設備。

5.根據權利要求1所述的一種涂層成膜速率的檢測方法，其特征在于：所述電源模塊為恒流源，所述恒流源為直流恒流源或交流恒流源。