[發明專利]一種高利用率寬面矩形陰極靶及其提高利用率的方法

有效

• 申請號: 202010773225.6
• 申請日: 2020-08-04
• 公開（公告）號: CN111876739B
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 張斌;高凱雄;賈倩;張俊彥;強力
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘭州化學物理研究所
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/32
• 代理公司: 蘭州智和專利代理事務所(普通合伙) 62201
• 代理人: 張英荷

1.一種寬面矩形陰極靶，其特征在于：包括軟鐵底板及設置在軟鐵底板上的中心磁鋼，包圍中心磁鋼的環形跑道磁鋼，且中心磁鋼與環形跑道磁鋼為異向；所述環形跑道磁鋼的磁場面與軟鐵底板呈10-15°的傾角；所述環形跑道磁鋼有多道，且環形跑道磁鋼均為同向，最外環形跑道磁鋼與中心磁鋼等高，且由外向內環形跑道磁鋼按照每道3mm的階梯降低，且保持環形跑道磁鋼的磁場面與軟鐵底板的傾角不變。

2.如權利要求1所述一種寬面矩形陰極靶，其特征在于：環形跑道磁鋼的寬度由外向內逐漸變小。

3.如權利要求1所述一種寬面矩形陰極靶，其特征在于：中心磁鋼和最外環形磁鋼均為釹鐵硼或釤鈷強磁鋼；內環磁鋼為釹鐵硼、釤鈷強磁鋼，或為鐵氧體弱磁鋼。

4.一種提高如權利要求1所述寬面矩形陰極靶利用率的方法，是將所述寬面矩形陰極靶在初次濺射使用后，將未濺射區域和已濺射區域靶材切割分離，未濺射區域按上述寬面矩形陰極靶的結構拼接后可以再次用作磁控濺射靶材。