[發(fā)明專(zhuān)利]一種殼體組件和電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010772499.3
• 申請(qǐng)日: 2020-08-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114071905A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王雷
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H05K5/02
• 分類(lèi)號(hào): H05K5/02;B44F1/06
• 代理公司: 北京知帆遠(yuǎn)景知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11890
• 代理人: 吳文婧

1.一種殼體組件，其特征在于，包括貼合設(shè)置的EL發(fā)光片和外觀(guān)膜片，所述外觀(guān)膜片靠近所述殼體組件的外光面設(shè)置，且所述外觀(guān)膜片包括：

膜片基材；

UV紋理層，所述UV紋理層設(shè)置在所述膜片基材靠近所述EL發(fā)光片的一側(cè)；

光透射層，所述光透射層設(shè)置在所述UV紋理層靠近所述EL發(fā)光片的一側(cè)，其中，所述光透射層為反射鍍膜層或油墨層，所述反射鍍膜層的透過(guò)率為15％～20％，所述反射鍍膜層的反射率為80％～90％，所述油墨層的透過(guò)率為5％～20％；及

遮光鏤空?qǐng)D案層，所述遮光鏤空?qǐng)D案層設(shè)置在所述光透射層靠近所述EL發(fā)光片的一側(cè)，且具有第一鏤空區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殼體組件，其特征在于，所述EL發(fā)光片包括：

薄膜基底；

公共電極層，所述公共電極層設(shè)置在所述薄膜基底的一個(gè)表面上；

圖案化發(fā)光層，所述圖案化發(fā)光層設(shè)置在所述公共電極層遠(yuǎn)離所述薄膜基底的表面上，且所述圖案化發(fā)光層的第二鏤空區(qū)域在所述薄膜基底上的正投影與所述第一鏤空區(qū)域在所述薄膜基底上的正投影沒(méi)有重疊區(qū)域；

絕緣層，所述絕緣層設(shè)置在所述圖案化發(fā)光層遠(yuǎn)離所述薄膜基底的表面上，且填充所述第二鏤空區(qū)域；

圖案化背電極層，所述圖案化背電極層設(shè)置在所述絕緣層遠(yuǎn)離所述薄膜基底的表面上，且所述第二鏤空區(qū)域在所述薄膜基底上的正投影與所述圖案化背電極層的第三鏤空區(qū)域在所述薄膜基底上的正投影重疊；

保護(hù)層，所述保護(hù)層設(shè)置在所述圖案化背電極層遠(yuǎn)離所述薄膜基底的表面上，且填充所述第三鏤空區(qū)域，

其中，所述薄膜基底靠近所述外觀(guān)膜片設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的殼體組件，其特征在于，所述薄膜基底為光擴(kuò)散型薄膜基底。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殼體組件，其特征在于，進(jìn)一步包括：

光擴(kuò)散膜片，所述光擴(kuò)散膜片設(shè)置在所述EL發(fā)光片和所述外觀(guān)膜片之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殼體組件，其特征在于，所述反射鍍膜層為銦層，所述銦層的厚度為20～50納米，優(yōu)選為30～40納米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殼體組件，其特征在于，所述反射鍍膜層的材料為氮化硅、氧化硅、氧化鈦、氧化鈮中的至少一種，所述反射鍍膜層的厚度為500～800納米。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殼體組件，其特征在于，所述油墨層的厚度為5～10微米。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殼體組件，其特征在于，進(jìn)一步包括：

顏色層，所述顏色層設(shè)置在所述膜片基材遠(yuǎn)離所述EL發(fā)光片的一側(cè)，或所述顏色層設(shè)置在所述膜片基材靠近所述EL發(fā)光層的一側(cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的殼體組件，其特征在于，所述圖案化發(fā)光層中含有色粉。

10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的殼體組件；

顯示屏組件，所述顯示屏組件與所述殼體組件相連，且所述顯示屏組件和所述殼體組件之間限定出安裝空間，其中，所述殼體組件的EL發(fā)光片靠近所述顯示屏組件設(shè)置；以及

主板，所述主板設(shè)置在所述安裝空間內(nèi)且與所述顯示屏組件電連接。