[發(fā)明專利]基于圖像處理的模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010771696.3 | 申請日: | 2020-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN112132172A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張官興;王赟;郭蔚;黃康瑩 | 申請(專利權(quán))人: | 紹興埃瓦科技有限公司;上海埃瓦智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/62 | 分類號: | G06K9/62;G06N3/08 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 曹瀚青 |
| 地址: | 311800 浙江省紹興市諸暨市陶*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 圖像 處理 模型 訓(xùn)練 方法 裝置 設(shè)備 介質(zhì) | ||
本申請涉及一種基于圖像處理的模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)。所述方法包括:通過待訓(xùn)練的生成器模型生成與訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的預(yù)測數(shù)據(jù);根據(jù)生成器損失函數(shù)計(jì)算生成器損失值,根據(jù)判別器損失函數(shù)計(jì)算判別器損失值;根據(jù)生成器損失值和判別器損失值,分別利用反向傳播反復(fù)交替優(yōu)化待訓(xùn)練的生成器模型和待訓(xùn)練的判別器模型,當(dāng)達(dá)到精度要求或者預(yù)設(shè)迭代次數(shù)后,保存待訓(xùn)練的生成器模型的生成器模型參數(shù)和待訓(xùn)練的判別器模型的判別器模型參數(shù),得到訓(xùn)練好的生成器模型和判別器模型。采用本方法中訓(xùn)練好的模型,無需通過專業(yè)資源或復(fù)雜的調(diào)校技術(shù),就能適應(yīng)性地生成與實(shí)際拍攝情況相匹配的圖像,節(jié)省了資源和時(shí)間成本,并保障了成像效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及圖像信號處理技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種基于圖像處理的模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)。
背景技術(shù)
隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展,智能手機(jī)以及相關(guān)智能手持終端設(shè)備等電子設(shè)備已經(jīng)成為人們的電子必需品。其中,各電子設(shè)備中的圖像信號處理技術(shù)決定了拍攝圖像的質(zhì)量好壞。現(xiàn)有的ISP(mage Signal Processing,圖像信號處理)方案是在電子設(shè)備中集成通用型的ISP芯片,并通過集成ISP芯片對電子設(shè)備中圖像傳感器輸出的信號做后期處理,如降噪和HDR(High-Dynamic Range,高動態(tài)范圍圖像)補(bǔ)正等處理,從而生成最終的圖像。
然而,采用現(xiàn)有的ISP方案時(shí),不同的電子設(shè)備在使用同一款I(lǐng)SP芯片時(shí),會得到與各自參數(shù)規(guī)格相應(yīng)的成像效果,由于各電子設(shè)備的參數(shù)規(guī)格不同,因而各自得到的成像效果不同,也就是說,存在無法保障成像效果的問題。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要針對上述技術(shù)問題,提供一種能夠保證成像效果的基于圖像處理的模型訓(xùn)練方法、裝置、設(shè)備和介質(zhì)。
一種基于圖像處理的模型訓(xùn)練方法,所述方法包括:
獲取訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù),并通過待訓(xùn)練的生成器模型對所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,生成與所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的預(yù)測數(shù)據(jù);
獲取與所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的標(biāo)簽數(shù)據(jù);
根據(jù)與所述待訓(xùn)練的生成器模型對應(yīng)的生成器損失函數(shù)計(jì)算所述生成器損失值;
將所述預(yù)測數(shù)據(jù)和所述標(biāo)簽數(shù)據(jù)輸入至待訓(xùn)練的判別器模型,根據(jù)與所述待訓(xùn)練的判別器模型對應(yīng)的判別器損失函數(shù)計(jì)算判別器損失值;所述判別器模型用于判斷所述預(yù)測數(shù)據(jù)和所述標(biāo)簽數(shù)據(jù)的相似度;
根據(jù)所述生成器損失值和所述判別器損失值,分別利用反向傳播反復(fù)交替優(yōu)化所述待訓(xùn)練的生成器模型和所述待訓(xùn)練的判別器模型,當(dāng)達(dá)到精度要求或者預(yù)設(shè)迭代次數(shù)后,保存所述待訓(xùn)練的生成器模型的生成器模型參數(shù)和所述待訓(xùn)練的判別器模型的判別器模型參數(shù),得到訓(xùn)練好的生成器模型和判別器模型;所述訓(xùn)練好的生成器模型用于對圖像處理設(shè)備采集的初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,以輸出與所述初始圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的圖像調(diào)校參數(shù)或輸出與所述初始圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的目標(biāo)圖像;輸出的圖像調(diào)校參數(shù)用于指示所述圖像處理設(shè)備生成與所述初始圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的目標(biāo)圖像。
一種基于圖像處理的模型訓(xùn)練裝置,所述裝置包括:
預(yù)測數(shù)據(jù)生成模塊,用于獲取訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù),并通過待訓(xùn)練的生成器模型對所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行處理,生成與所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的預(yù)測數(shù)據(jù);
獲取模塊,用于獲取與所述訓(xùn)練集樣本圖像數(shù)據(jù)對應(yīng)的標(biāo)簽數(shù)據(jù);
生成器損失值計(jì)算模塊,用于根據(jù)與所述待訓(xùn)練的生成器模型對應(yīng)的生成器損失函數(shù)計(jì)算所述生成器損失值;
判別器損失值計(jì)算模塊,用于將所述預(yù)測數(shù)據(jù)和所述標(biāo)簽數(shù)據(jù)輸入至待訓(xùn)練的判別器模型,根據(jù)與所述待訓(xùn)練的判別器模型對應(yīng)的判別器損失函數(shù)計(jì)算判別器損失值;所述判別器模型用于判斷所述預(yù)測數(shù)據(jù)和所述標(biāo)簽數(shù)據(jù)的相似度;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于紹興埃瓦科技有限公司;上海埃瓦智能科技有限公司,未經(jīng)紹興埃瓦科技有限公司;上海埃瓦智能科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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