[發明專利]一種MOCVD組合噴淋頭及MOCVD設備有效
| 申請號： | 202010766982.0 | 申請日： | 2020-08-03 |
| 公開（公告）號： | CN111778552B | 公開（公告）日： | 2021-10-08 |
| 發明（設計）人： | 劉可為;陳星;申德振;楊佳霖 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | C30B25/14 | 分類號： | C30B25/14;C30B29/54 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 王雨 |
| 地址： | 130033 吉林省長春市*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 mocvd 組合 噴淋 設備 | ||
1.一種MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，包括固定軌道及多個單一反應源噴淋頭；
所述固定軌道用于固定多個所述單一反應源噴淋頭；
所述單一反應源噴淋頭包括機動組件、擴散腔、輸氣管及噴嘴陣列；
反應氣體通過所述輸氣管進入所述擴散腔，并在所述擴散腔內擴散后，通過所述噴嘴陣列到達待沉積襯底的表面；
所述單一反應源噴淋頭通過所述機動組件連接于所述固定軌道，并通過所述機動組件沿所述固定軌道在垂直于所述待沉積襯底的表面的方向上移動。
2.如權利要求1所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述單一反應源噴淋頭還包括固定組件；
所述固定組件用于固定所述單一反應源噴淋頭，使所述單一反應源噴淋頭與所述固定軌道間無相對位移。
3.如權利要求1所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述機動組件包括步進電機與定位齒輪。
4.如權利要求3所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述固定軌道為螺紋拉桿。
5.如權利要求4所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述單一反應源噴淋頭的位置調節的精度的范圍為0.4毫米至0.6毫米，包括端點值。
6.如權利要求1所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述輸氣管為波紋管。
7.如權利要求1所述的MOCVD組合噴淋頭，其特征在于，所述單一反應源噴淋頭的數量范圍為2個至6個，包括端點值。
8.一種MOCVD設備，其特征在于，所述MOCVD設備包括如權利要求1至7任一項所述的MOCVD組合噴淋頭及襯底托；
所述襯底托用于固定待沉積襯底。
9.如權利要求8所述的MOCVD設備，其特征在于，所述單一反應源噴淋頭的出氣方向與所述待沉積襯底的表面垂直。
10.如權利要求8所述的MOCVD設備，其特征在于，所述噴嘴陣列的出氣口到所述待沉積襯底的表面的距離的范圍為0.2厘米至20厘米，包括端點值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，未經中國科學院長春光學精密機械與物理研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010766982.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
