[發明專利]一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法

在審

• 申請號: 202010752610.2
• 申請日: 2020-07-30
• 公開（公告）號: CN111676440A
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 梁愛民;李曉倩;王富國;張俊彥
• 申請（專利權）人: 中國科學院蘭州化學物理研究所
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/06;C23C4/02
• 代理公司: 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002
• 代理人: 曹向東

1.一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法，其特征在于：將基體進行預處理后，利用等離子噴涂技術將含有氫化鉭的Ta粉熔融后噴涂至其表面，即得Ta₂O₅原位復合Ta基納米晶涂層。

2.如權利要求1所述的一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法，其特征在于：所述基體的材質為各種不同牌號的鋼材。

3.如權利要求1所述的一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法，其特征在于：所述預處理是指先采用中性或弱酸性水基除油劑對所述基材進行除油，然后依次經蒸餾水洗滌、拋光除銹、丙酮溶液洗滌，最后采用棕剛玉噴砂即可。

4.如權利要求1所述的一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法，其特征在于：所述Ta粉中含有α-Ta相及Ta₂H相，其粒度45 μm，純度＞99.9%。

5.如權利要求1所述的一種氧化鉭原位復合鉭基納米晶抗磨減摩涂層的制備方法，其特征在于：所述等離子噴涂條件是指電流為360~420 A，電壓為150~170 V，氬氣流量為110~160 LPM，氫氣流量為30~50 LPM，采用連續噴涂或間斷噴涂，噴涂次數為6~8次，連續噴涂或前后兩次噴涂間隔2~3 s。