[發明專利]用于在測量系統中進行補償的方法

在審

• 申請號: 202010747463.X
• 申請日: 2020-07-30
• 公開（公告）號: CN112345466A
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 弗蘭克·韋伯;蒂洛·克拉齊穆爾;費利西婭·賽希特
• 申請（專利權）人: 恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司
• 主分類號: G01N21/25
• 分類號: G01N21/25;G01N21/31;G01J3/28;G01J3/42;G01J3/443
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 穆森;戚傳江

1.一種用于補償光譜測量系統(10)中不同波長處的不同靈敏度的方法，包括以下步驟：

-在相對于一個或多個已知參考標準的波長范圍內校準所述測量系統(10)，

-創建用于線性化的波長相關補償算法，以及

-使用所述補償算法來調整所述測量系統(10)。

2.根據權利要求1所述的方法，

其中，所述參考標準(R)是固態標準，尤其是灰色濾光器。

3.根據權利要求1或2所述的方法，

其中，用于要被線性化的波長的所述補償算法被配置成閉合形式或被配置成為點表。

4.根據權利要求3所述的方法，

其中，在點表的情況下，在點之間執行線性插值。

5.根據前述權利要求中的一項所述的方法，

其中，在一個或兩個波長處執行所述校準和所述調整。

6.根據前述權利要求中的一項所述的方法，

其中，創建所述補償算法包括確定實際相關曲線(T)，

其中，所述實際相關曲線(T)是使用多個校準點(T1、T2、...、Tn)借助于所述參考標準(R)來確定的。

7.根據前述權利要求中的一項所述的方法，

其中，創建所述補償算法包括確定實際相關曲線(T)，

其中，通過少量的，尤其是一個、兩個或至多三個校準點(T1*)變換原始相關曲線(U)來確定所述實際相關曲線(T)，

其中，所述原始相關曲線(U)由多個校準點(T1、T2、...、Tn)借助于所述參考標準(R)并且由多個測量系統(10)生成。

8.一種測量系統(10)

包括至少一個光源(1)、光譜儀(3)和數據處理單元(4)，所述數據處理單元被設計成執行根據前述權利要求中的一項所述的方法的步驟。

9.根據上一權利要求所述的測量系統(10)，

其中，所述光源(1)被配置為氙氣閃光燈、氣體放電燈或熒光燈。

10.一種包括使根據前述權利要求中的一項所述的測量系統執行根據前述權利要求中的一項所述的方法步驟的指令的計算機程序。

11.一種計算機可讀介質，

在其上存儲根據上一權利要求所述的計算機程序。