[發明專利]一種空穴注入材料在審
| 申請號： | 202010744040.2 | 申請日： | 2020-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN114057542A | 公開（公告）日： | 2022-02-18 |
| 發明（設計）人： | 張雙 | 申請（專利權）人： | 上海和輝光電股份有限公司 |
| 主分類號： | C07C25/22 | 分類號： | C07C25/22;C07C255/52;C07C255/34;C07C43/225;C07D207/452;H01L51/54 |
| 代理公司： | 上海隆天律師事務所 31282 | 代理人： | 朱俊躍;鐘宗 |
| 地址： | 201506 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 空穴 注入 材料 | ||
1.一種空穴注入材料，適用于OLED器件中，其特征在于，具有式I所示的結構的化合物：
其中，R1-R10各自獨立的為H、氟基、三氟甲基、氰基、二氰基乙烯，或氟基、三氟甲基、氰基取代的烷基、烷氧基、芳基、雜芳基或芳氧基；
R11和R12為直接鍵合或各自獨立的為H、氟基、三氟甲基、氰基、二氰基乙烯，或氟基、三氟甲基、氰基取代的烷基、烷氧基、芳基、雜芳基或芳氧基；
R13和R14為直接鍵合或各自獨立的為H、氟基、三氟甲基、氰基、二氰基乙烯，或氟基、三氟甲基、氰基取代的烷基、烷氧基、芳基、雜芳基或芳氧基。
2.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R14各自獨立的為氟基。
3.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R14各自獨立的為氟基或三氟甲基。
4.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R14各自獨立的為氟基或氰基。
5.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R14各自獨立的為H或二氰基乙烯。
6.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R11和R12為直接鍵合，所述R1-R10、R13和R14各自獨立的為氟基或氮雜環戊烷二酮。
7.根據權利要求1所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R11和R12為直接鍵合，所述R13和R14為直接鍵合。
8.根據權利要求7所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R10各自獨立的為氟基、H或氟基取代的烷氧基。
9.根據權利要求7所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R10各自獨立的為H或氰基。
10.根據權利要求7所述的空穴注入材料，其特征在于：所述R1-R10各自獨立的為H、氰基或氰基取代的芳基。
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