[發明專利]一種半導體二氧化鈰研磨漿液在審
| 申請號： | 202010742568.6 | 申請日： | 2020-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN111718658A | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發明（設計）人： | 劉仁軍;漆書兵;周杰;易石山;謝求泉;楊敏 | 申請（專利權）人： | 江西龐泰環保股份有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 南昌金軒知識產權代理有限公司 36129 | 代理人： | 李楠 |
| 地址： | 337000 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 半導體 氧化 研磨 漿液 | ||
【權利要求書】：
1.一種半導體二氧化鈰研磨漿液，其特征在于，其原料組分包括：2-4wt％納米CeO2、0.2-0.5wt％絡合劑、0.2-0.5wt％分散劑、0.2-0.5wt％氧化劑、其余為水。
2.根據權利要求1所述的一種半導體二氧化鈰研磨漿液，其特征在于：所述絡合劑為EDTA、乙二胺四甲叉磷酸鈉(EDTMPS)、二乙烯三胺五甲叉膦酸鹽(DETPMPS)、胺三甲叉磷酸鹽中的任意一種或多種的混合。
3.根據權利要求1所述的一種半導體二氧化鈰研磨漿液，其特征在于：所述分散劑為六偏磷酸鈉、三聚磷酸鈉、焦磷酸鈉中的任意一種或多種的混合。
4.根據權利要求1所述的一種半導體二氧化鈰研磨漿液，其特征在于：所述氧化劑為過硫酸銨、過氧化氫、過氧乙酸中的任意一種或多種的混合。
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