[發明專利]一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除裝置及方法有效
| 申請號: | 202010741764.1 | 申請日: | 2020-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN111796485B | 公開(公告)日: | 2023-06-23 |
| 發明(設計)人: | 徐飛;鄔治國;沈健 | 申請(專利權)人: | 常州瑞擇微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 北京高沃律師事務所 11569 | 代理人: | 代芳 |
| 地址: | 213000 江蘇省常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光掩模 邊緣 側面 光刻 去除 裝置 方法 | ||
本發明公開一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除裝置及方法,涉及光掩模技術領域,包括依次設置于光掩模邊緣的第一噴頭和第二噴頭,第一噴頭和第二噴頭沿光掩模邊緣線性移動;第一噴頭上設置有第一去膠溶劑噴嘴和第一真空吸入口,第一去膠溶劑噴嘴垂直設置于光掩模的側面上部,第一真空吸入口垂直設置于光掩模的背面邊緣;第二去膠溶劑噴嘴垂直設置于光掩模的正面邊緣,第二真空吸入口垂直設置于光掩模的側面;第一去膠溶劑噴嘴和第二去膠溶劑噴嘴均通過進液管連接有供液組件,第一真空吸入口和第二真空吸入口均通過真空管連接有真空系統。本發明同時清洗光掩模側面殘留光刻膠和邊緣光刻膠,且在清洗過程中不會影響到其他區域的光刻膠。
技術領域
本發明涉及光掩模技術領域,特別是涉及一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除裝置及方法。
背景技術
高端光掩模在涂完光刻膠后,側面的光刻膠殘留會污染曝光機;正面邊緣的光刻膠會污染曝光機和光掩模的夾具;邊緣光刻膠去除后光掩模在邊緣部分還需要通過導線接地才能進行曝光工藝。
目前,高端的光掩模側面和邊緣的光刻膠無有效去除方法,對高端的光掩模邊緣和側面的光刻膠做不到定點線性清洗,同時不影響光掩模正面的光刻膠。
發明內容
本發明的目的是提供一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除裝置及方法,以解決上述現有技術存在的問題,同時清洗光掩模側面殘留光刻膠和邊緣光刻膠,且在清洗過程中不會影響到其他區域的光刻膠。
為實現上述目的,本發明提供了如下方案:本發明提供一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除裝置,包括依次設置于光掩模邊緣的第一噴頭和第二噴頭,所述第一噴頭和所述第二噴頭沿所述光掩模邊緣線性移動;所述第一噴頭上設置有第一去膠溶劑噴嘴和第一真空吸入口,所述第一去膠溶劑噴嘴垂直設置于光掩模的側面上部,所述第一真空吸入口垂直設置于所述光掩模的背面邊緣;所述第二噴頭上設置有第二去膠溶劑噴嘴和第二真空吸入口,所述第二去膠溶劑噴嘴垂直設置于所述光掩模的正面邊緣,所述第二真空吸入口垂直設置于所述光掩模的側面;所述第一去膠溶劑噴嘴和所述第二去膠溶劑噴嘴均通過進液管連接有供液組件,所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均通過真空管連接有真空系統。
優選的,所述第一去膠溶劑噴嘴、所述第二去膠溶劑噴嘴、所述第一真空吸入口和所述第二真空吸入口均靠近所述光掩模設置。
優選的,所述供液組件包括儲液罐,所述儲液罐通過進液管與所述第一去膠溶劑噴嘴或所述第二去膠溶劑噴嘴連接,所述進液管上設置有動力裝置和流量控制組件。
優選的,所述動力裝置采用PTFE材質的風囊泵或者壓力罐,所述流量控制組件采用流量控制閥。
優選的,所述真空系統包括真空發生器,所述真空發生器通過所述真空管與所述第一真空吸入口或所述第二真空吸入口連接,所述真空發生器連接有發生控制器。
優選的,所述真空管上設置有真空調速閥,所述真空調速閥連接有真空調壓表,所述真空調壓表與所述發生控制器連接。
優選的,所述第一真空吸入口以及所述第二真空吸入口與所述真空調速閥之間設置有氣液分離器。
本發明還公開一種光掩模邊緣和側面光刻膠的去除方法,包括以下步驟:
步驟一、將第一噴頭和第二噴頭安裝在光掩模的邊緣;
步驟二、控制第二噴頭和第一噴頭依次沿光掩模邊緣線性移動;
步驟三、通過第二噴頭的第二去膠溶劑噴嘴噴出去膠溶劑,清除光掩模正面邊緣的光刻膠,溶解完光刻膠的溶劑通過第二真空吸入口吸走回收;
步驟四、通過第一噴頭的第一去膠溶劑噴嘴噴出去膠溶劑,清除光掩模側面的光刻膠,溶解完光刻膠的溶劑通過第一真空吸入口吸走回收;
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