[發明專利]一種主三鏡一體化同軸四反光學系統

有效

• 申請號: 202010741296.8
• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN111812829B
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發明（設計）人: 徐偉;李宗軒;劉瑞婧;楊秀彬;李云峰
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B17/06
• 分類號: G02B17/06
• 代理公司: 長春眾邦菁華知識產權代理有限公司 22214
• 代理人: 張偉

1.一種主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，包括主反射鏡(1)、次反射鏡(2)、第三反射鏡(3)和第四反射鏡(4)，所述主反射鏡(1)的頂點曲率半徑為713.527mm，所述次反射鏡(2)的頂點曲率半徑為387.386mm，所述第三反射鏡(3)的頂點曲率半徑為201.258mm，所述第四反射鏡(4)的頂點曲率半徑為265.212mm，所述主反射鏡(1)的口徑為420mm；

所述主反射鏡(1)、所述次反射鏡(2)、所述第三反射鏡(3)和所述第四反射鏡(4)同軸設置，且所述主反射鏡(1)與所述第三反射鏡(3)一體化加工設計，所述次反射鏡(2)與所述第四反射鏡(4)位于所述主反射鏡(1)的同一側，所述主反射鏡(1)、所述次反射鏡(2)、所述第三反射鏡(3)和所述第四反射鏡(4)均為二次非球面反射鏡，所述第三反射鏡(3)和所述第四反射鏡(4)均開有通光孔，所述主反射鏡(1)作為所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的孔徑光闌；

入射光依次經過所述主反射鏡(1)、所述次反射鏡(2)反射后通過所述第四反射鏡(4)上的通光孔到達所述第三反射鏡(3)，所述第三反射鏡(3)將光線再次反射至所述第四反射鏡(4)上，所述第四反射鏡(4)將光線反射，反射光通過所述第三反射鏡(3)上的通光孔后會聚至位于焦面處的探測器(5)上，在所述探測器(5)上成像，所述主反射鏡(1)、所述次反射鏡(2)、所述第三反射鏡(3)、所述第四反射鏡(4)與光線接觸的表面分別為標準面2、標準面3、標準面5、標準面6，所述標準面2與所述標準面3之間的間隔為282.906mm，所述標準面5與所述標準面6之間的間隔為166mm，所述標準面6與所述焦面所在的標準面7之間的間隔為365.211mm，所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的總長為486mm，畸變小于等于0.12，雜光系數為1.03％。

2.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的譜段范圍為450nm～850nm。

3.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的焦距為3506mm。

4.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的F數為8.3。

5.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統在推掃模式下的視場范圍為1.24°×0.01°。

6.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的透過率大于等于0.8。

7.根據權利要求1所述的主三鏡一體化同軸四反光學系統，其特征在于，

所述主三鏡一體化同軸四反光學系統的外包絡尺寸為Φ430×640mm。