[發明專利]二維投影圖像生成裝置及其二維投影圖像生成方法

在審

• 申請號: 202010741138.2
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN111830706A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 黎良田;林永豪;郝新龍
• 申請（專利權）人: 深圳職業技術學院
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G02B27/01
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 李琴

1.一種二維投影圖像生成裝置，其特征在于，包括激光源、以第一軸為偏轉軸的第一反射鏡、以與所述第一軸正交的第二軸為偏轉軸的第二反射鏡、驅動所述第一反射鏡繞第一軸諧振偏轉的第一驅動機構和驅動所述第二反射鏡繞第二軸諧振偏轉的第二驅動機構，來自激光源的入射光由第一反射鏡反射后的反射光再由第二反射鏡反射作為出射光輸出，其中：

所述第一反射鏡和第二反射鏡均由柔性印刷電路板工藝制成，具有支撐板和從支撐板的偏轉軸延伸方向上的兩側沿偏轉軸延伸出的兩個懸臂以及形成于兩個懸臂外端的兩個安裝板，所述支撐板的上表面設置一鏡面，所述支撐板的下表面中心與偏轉軸垂直的方向上的兩側對稱設置第一永磁體和第二永磁體；

所述第一驅動機構和第二驅動機構均包括對應所述第一永磁體和第二永磁體分設于所述支撐板下方的與偏轉軸垂直的方向上的兩側的第一電磁鐵和第二電磁鐵。

2.根據權利要求1所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述第一反射鏡和第二反射鏡的兩個安裝板分別固定安裝在第一支撐框架和第二支撐框架頂部沿偏轉軸延伸方向間隔設置的兩個支撐梁上，使所述支撐板通過所述兩個懸臂懸置于兩個支撐梁之間；所述第一驅動機構和第二驅動機構的第一電磁鐵和第二電磁鐵分別設置于所述第一支撐框架和第二支撐框架底部的安裝座上。

3.根據權利要求2所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述激光源還設有用于調節入射光的入射高度和入射角度的調節機構。

4.根據權利要求3所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述調節機構包括圓柱形支柱和可轉動并鎖緊安裝于所述圓柱形支柱上的圓柱體裝夾器，所述激光源的激光發射器鎖緊固定在所述圓柱體裝夾器上，以隨所述圓柱體裝夾器相對于圓柱形支柱升降和旋轉來調節入射光的入射高度和入射角度。

5.根據權利要求4所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述激光源還設有用于沿至少一個方向調節激光發射器的入射位置的平移機構，所述圓柱形支柱安裝在所述平移機構上。

6.根據權利要求5所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，還包括一安裝底座，所述平移機構、第一支撐框架和第二支撐框架以使激光源的入射光由第一反射鏡反射后的反射光再由第二反射鏡反射輸出且第一反射鏡和第二反射鏡的偏轉軸正交的方式固定安裝在安裝底座上。

7.根據權利要求1所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述第一永磁體和第二永磁體分別為圓柱形永磁鐵。

8.根據權利要求1所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述第一電磁鐵和第二電磁鐵分別為表面繞有金屬線圈的圓柱形電磁鐵。

9.根據權利要求1所述的二維投影圖像生成裝置，其特征在于，所述鏡面為硅片鏡面。

10.一種如權利要求1-9中任一項所述的二維投影圖像生成裝置的二維投影圖像生成方法，其特征在于，包括如下步驟：

將第一驅動機構和第二驅動機構的第一電磁鐵和第二電磁鐵均接入頻率相同、相位相差180°的正弦電流信號，使第一電磁鐵和第二電磁鐵產生正弦規律變化且方向相反的一對電磁力，吸引第一反射鏡和第二反射鏡的鏡面分別繞偏轉軸諧振偏轉，將入射光由第一反射鏡反射后的反射光再由第二反射鏡反射形成二維圖像掃描面；

控制所述二維圖像掃描面中每一個投射點對應的激光源的開關，從而獲得所需的二維投影圖像。