[發(fā)明專利]底盤構件

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010741009.3
• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN112297736A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設計）人: C·呂辛;A·施羅德;G·福特邁爾;J·桑德爾
• 申請（專利權）人: 本特勒爾汽車技術有限公司
• 主分類號: B60G7/00
• 分類號: B60G7/00;B60G7/02
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉盈

1.底盤構件，包括在基面平面中延伸的基面(11)和用于引導穿過緊固件的缺口(2)以及設置在所述缺口(2)的相對置的側上的用于保持偏心元件(5)的兩個保持元件(3、6、6.1、6.2)，其中，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)一件式且材料一致地由底盤構件的基面(11)形成，并且所述保持元件(3、6、6.1、6.2)通過機械加工從基面(11)偏移，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)從基面平面中最高偏移了相應于基面(11)厚度的尺寸。

2.按照權利要求1所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)通過底盤構件的材料從基面(11)的局部偏移制成。

3.按照權利要求1或2所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)通過底盤構件的材料從基面(11)的楔形偏移而制成。

4.按照權利要求1或2所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)通過底盤構件的材料從基面(11)的階梯形偏移而制成。

5.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)具有面向缺口(2)的自由邊(4、4.1)，所述自由邊通過在底盤構件的基面(11)中的切口形成并且形成相對于基面(11)提高的、用于偏心元件(5)的止擋。

6.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)實施為，使得從緊固件出發(fā)的力流在保持元件(3、6、6.1、6.2)旁引導經(jīng)過。

7.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述自由邊(4、4.1)具有最高相應于缺口(2)在相同方向上的延伸尺寸的長度。

8.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述自由邊(4、4.1)至少局部垂直于構成為長孔的缺口(2)延伸。

9.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)具有至少一個第一區(qū)段(8.1)，所述第一區(qū)段具有梯形的切口輪廓。

10.按照權利要求9所述的底盤構件，其特征在于，所述第一區(qū)段(8.1)的自由邊(4、4.1)和邊沿(4.2、4.3、10.1、10.2)成小于90°、優(yōu)選小于70°的角度。

11.按照權利要求9或10所述的底盤構件，其特征在于，所述梯形的切口輪廓具有倒圓的角(7)。

12.按照權利要求9至11之一所述的底盤構件，其特征在于，所述第一區(qū)段的邊沿(4.2、4.3、10.1、10.2)具有相互凹形的形狀。

13.按照權利要求9至12之一所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)在其背離缺口(2)的一側上具有第二區(qū)段(9)，所述第二區(qū)段連接到所述第一區(qū)段(8.1)上。

14.按照權利要求13所述的底盤構件，其特征在于，所述第二區(qū)段(9)具有與缺口(2)平行的切邊。

15.按照上述權利要求之一所述的底盤構件，其特征在于，所述保持元件(3、6、6.1、6.2)與缺口(2)同時產(chǎn)生。