[發明專利]一種大長徑比旋轉管靶材噴砂設備

在審

• 申請號: 202010739905.6
• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN111843854A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 劉芳;羅俊鋒;李嘉;曾浩;王宇;熊曉東;李勇軍;賀昕;張延賓
• 申請（專利權）人: 有研億金新材料有限公司
• 主分類號: B24C3/02
• 分類號: B24C3/02;B24C9/00
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 李全旺

本發明公開了一種大長徑比旋轉管靶材噴砂設備，包括工字型支架和腳支架，工字型支架包括上管靶固定蓋和下管靶固定蓋，旋轉管靶材的中部套接有橡膠夾套，上管靶固定蓋和下管靶固定蓋的左右兩側各設置有兩個定位圓盤，且下管靶固定蓋和定位圓盤為一體式設計，通過定位圓盤的運動帶動下管靶固定蓋的運動，實現旋轉管靶材在豎直方向的自由旋轉；旋轉管靶材的兩端各設置有兩個噴砂擋板，位于旋轉管靶材端面處的噴砂擋板上均設置有吊耳，腳支架通過吊繩與吊耳的配合實現對旋轉管靶材的升降和搬運。本發明結合工字型支架和腳支架作為管靶噴砂，可使管靶材在豎直方向自由旋轉，精準噴砂，解決了大長徑比管靶噴砂占地空間大，噴砂角度受限等問題。

技術領域

本發明屬于濺射技術領域，尤其涉及一種大長徑比旋轉管靶材噴砂設備。

背景技術

高純金屬濺射靶材是高端集成電路產業的關鍵支撐材料之一，濺射靶材主要分為旋轉靶材和平面靶材。與平面濺射靶材相比，旋轉靶材濺射鍍膜連續性好、鍍膜成分均勻、利用率大約為平面濺射靶材的2倍,特別是在8.5代線之后，大長徑比旋轉靶材逐漸代替平面靶材。因此，開展大長徑比旋轉靶材的加工制造具有比較大的優勢。

大長徑比旋轉管靶材的表面處理工藝主要是噴砂，噴砂的目的是吸附濺射過程的雜質粒子，防止沉積在濺射薄膜上降低薄膜質量。但是，由于大長徑比旋轉管靶材重量大，長度長，在產線作業時，存在大尺寸旋轉管靶材搬運困難、占地空間大、噴砂方向角度受限等問題，導致產線作業效率低。

發明內容

為了克服現有技術存在的一系列缺陷，本發明的目的在于針對上述問題，提供一種大長徑比旋轉管靶材噴砂設備，包括工字型支架9、定位圓盤6、上管靶固定蓋3、下管靶固定蓋2和旋轉管靶材1，其特征在于，工字型支架9用于支撐定位圓盤6；上管靶固定蓋3和下管靶固定蓋2的左右兩側各設置有兩個定位圓盤6，且下管靶固定蓋2和定位圓盤6為一體式設計，通過定位圓盤6的運動帶動下管靶固定蓋2的運動，實現旋轉管靶材1在豎直方向的自由旋轉；旋轉管靶材1固定于上管靶固定蓋3與下管靶固定蓋2之間。

優選的，旋轉管靶材1的中部套接有橡膠夾套5，旋轉管靶材1通過將橡膠夾套5固定于上管靶固定蓋3與下管靶固定蓋2之間，實現其與工字型支架9的固定連接。

優選的，旋轉管靶材1的兩端各設置有兩個噴砂擋板4，處于同一端的兩個噴砂擋板4分別位于旋轉管靶材1的端面和法蘭端面處，位于旋轉管靶材1端面處的噴砂擋板4上均設置有吊耳13，腳支架15通過吊繩16與吊耳13的配合實現對旋轉管靶材1的升降和搬運。

優選的，上管靶固定蓋3和下管靶固定蓋2的翼部表面均勻分布有圓孔，上管靶固定蓋3和下管靶固定蓋2之間通過雙頭螺栓與圓孔的配合進行緊固連接。

優選的，定位圓盤6內部采用加強筋結構，定位圓盤6的表面均勻分布有通孔，通過通孔與定位銷14的配合對同一側的定位圓盤6進行緊固。

優選的，處于同一側的定位圓盤6通過連接桿8連接，且連接桿8通過軸承7支撐安裝在工字型支架9上。

優選的，工字型支架9一側設置有第一電機10，第一電機10和定位圓盤6通過皮帶連接，第一電機10通過皮帶帶動定位圓盤6運動。

優選的，還包括靶材提升機構，該機構包括腳支架15，其上部設置有定滑輪17、底部設置第二電機18，吊繩16用于提升所述靶材，穿過定滑輪17與第二電機18連接。

優選的，工字型支架9與腳支架15的底端外壁均陣列分布有四個滑輪12。

與現有技術相比，本發明具備以下有益效果：

1)本發明的一種大長徑比旋轉管靶材噴砂設備，利用下管靶固定蓋和定位圓盤一體化的設計，旋轉管靶材在豎直方向可任意旋轉，不僅節約了水平方向的空間，提高了產線作業效率，而且可以方便靈活地旋轉至任一角度，精準噴砂，不存在噴砂死角現象；