[發明專利]一種生成可以影響人臉認證的配飾的方法有效
| 申請號: | 202010738081.0 | 申請日: | 2020-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN112001262B | 公開(公告)日: | 2022-07-29 |
| 發明(設計)人: | 孫建德;劉橙橙;李靜;邵偉卓;張化祥 | 申請(專利權)人: | 山東師范大學 |
| 主分類號: | G06V40/16 | 分類號: | G06V40/16;G06V10/771;G06V10/774;G06T3/00;G06K9/62 |
| 代理公司: | 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221 | 代理人: | 李健康 |
| 地址: | 250014 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 生成 可以 影響 認證 配飾 方法 | ||
1.一種生成可以影響人臉認證的配飾的方法,該方法生成的配飾根據在人臉信息采集時是否佩戴配飾和配飾位置的不同,能夠影響人臉是否被正確認證或識別,主要包括以下步驟:
步驟1:計算圖像塊的離散熵,根據熵值大小判斷出人臉圖像中的關鍵區域,具體方法為:對人臉圖像采用一定的滑動步長獲取圖像塊,然后對每個圖像塊計算離散熵,離散熵大于閾值的圖像塊所包含的信息量多于其它圖像塊,將其判定為人臉的關鍵區域,計算如下:
對于一張像素級為N,尺寸為W×H的灰度人臉圖像塊,其離散熵計算公式為:
fj=sj/(W×H)j=0,1,2,…,N-1
其中,sj表示像素值為j的像素點的個數,ei表示人臉圖像中第i個圖像塊,E(ei)表示圖像塊ei的離散熵;
當處理彩色人臉圖像時,使用每個圖像塊的R、G、B三個通道離散熵的平均值作為該圖像塊的離散熵,將閾值設置為詳細計算過程如下:
Lx=Li
其中,表示圖像塊ei在R、G、B三個通道上離散熵的平均值,Er(ei)、Eg(ei)和Eb(ei)分別表示圖像塊在R通道、G通道和B通道的離散熵,ψ表示返回圖像塊ei在人臉上的位置的函數,T為離散熵閾值,用來選出包含信息量較多的圖像塊,Li表示第i個圖像塊的位置,avr代表對整幅人臉圖像所有圖像塊的離散熵求平均值,α為控制閾值大小的參數;
步驟2:選定配飾尺寸,采用不同形式的噪音對配飾進行初始化,得到初始化的矩形配飾xinit;
步驟3:將初始化的矩形配飾經過拋物線變換變成弧形,映射到人臉圖像上,所述拋物線變換公式為:
其中,xinit是初始化的矩形配飾,xt是經拋物線變換后的配飾,a,b和c是控制拋物線變換的參數;
步驟4:采用生成算法生成配飾,用戶p在錄入人臉識別系統F時的配飾為:
p(x|F)=xinit+Δ(xinit|F)
其中,Δ(xinit|F)表示對于人臉識別系統F的初始化配飾添加的擾動;
生成算法生成的配飾需要滿足以下條件:特定用戶在進行特定人臉認證系統的人臉信息采集時,同時滿足條件(1)和條件(2),條件(1)為:當錄入原始人臉圖像,在用戶進行系統認證時,只有原始人臉圖像能夠被正確識別,在人臉任何位置佩戴生成算法生成的配飾的人臉圖像不能被系統正確識別,其中生成的配飾是對于該用戶和該系統都是特有的,具體表達式為:
條件(2)為:當用戶錄入在人臉某個位置佩戴個性化配飾的人臉圖像,當用戶進行認證時,只有在相同位置佩戴個性化配飾的人臉圖像能夠被正確識別,原始人臉圖像、或者在不同位置佩戴個性化配飾的人臉圖像,都無法被正確識別,具體表達式為:
其中,表示用戶p在人臉位置li佩戴系統F對用戶p特有的配飾的人臉圖像,ep表示用戶p原始人臉圖像,表示用戶p在人臉非li位置佩戴系統F對于用戶p特有的配飾的人臉圖像;
步驟5:用戶佩戴步驟4生成的個性化配飾,根據在人臉信息采集時是否佩戴配飾和配飾位置的不同,能夠影響人臉認證時能否被正確識別。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于山東師范大學,未經山東師范大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010738081.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種旋蓋質量控制方法
- 下一篇:一種自動排廢裝置及印刷系統





