[發(fā)明專利]酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生系統(tǒng)與工藝

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• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN111748826A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張良
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山科之源環(huán)保科技有限公司
• 主分類號: C25C1/12
• 分類號: C25C1/12;C25C7/04;C25B1/26;C25B9/08;C23F1/46
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1.一種酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于，主要包括下述步驟：

S1：在線酸性蝕刻機(jī)產(chǎn)生的待處理蝕刻廢液儲存于蝕刻廢液儲存裝置內(nèi)，該待處理蝕刻廢液從蝕刻廢液儲存裝置內(nèi)進(jìn)入單膜雙室電解裝置并在其中通過正壓微滲透膜電解法進(jìn)行循環(huán)電解反應(yīng)，電解過程中待處理蝕刻廢液中的銅離子在陰極被還原為單質(zhì)銅，同時陽極產(chǎn)生氯氣，且在電解過程中產(chǎn)生酸性氣體，其中單質(zhì)銅后續(xù)經(jīng)沉淀過濾取出；

S2：待處理蝕刻廢液經(jīng)步驟S1進(jìn)行電解后產(chǎn)生的電解液經(jīng)再生液儲存裝置進(jìn)行儲存后進(jìn)入再生液調(diào)配裝置內(nèi)，并結(jié)合廢液儲存裝置輸送過來的部分待處理蝕刻廢液進(jìn)行組分調(diào)配后形成再生液；該再生液進(jìn)入再生液引射吸收裝置，并與S1步驟中電解產(chǎn)生的氯氣中的部分進(jìn)行氣液混合反應(yīng)后形成再生子液，并通過液體管道將該再生子液輸送并儲存于再生子液儲存裝置內(nèi)，該再生子液通過液體管道輸送并進(jìn)入在線酸性蝕刻機(jī)所使用的工作蝕刻液中用于酸性蝕刻工序，形成蝕刻廢液的回用閉路循環(huán)；

S3：待處理蝕刻廢液經(jīng)步驟S1進(jìn)行電解后產(chǎn)生的氯氣除去用于S2步驟中進(jìn)入再生液引射吸收裝置后的剩余部分，經(jīng)氯氣回用再生裝置后進(jìn)入在線酸性蝕刻機(jī)的工作蝕刻液中進(jìn)行循環(huán)反應(yīng)，保證工作蝕刻液的ORP值；

S4：在線酸性蝕刻機(jī)在停機(jī)和已滿足生產(chǎn)需求后，再生液引射吸收裝置內(nèi)多余的氯氣和酸性氣體以及S1步驟中產(chǎn)生的酸性氣體依次進(jìn)入低溫水簾吸收裝置、動力波吸收裝置和旋轉(zhuǎn)噴淋塔中進(jìn)行吸收處理，處理后的尾氣達(dá)標(biāo)后排放。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S2中，通過再生液ORP控制器檢測再生液引射吸收裝置的缸體內(nèi)藥液的ORP值來控制進(jìn)入該裝置缸體內(nèi)的氯氣與再生液的混合比例，使再生子液的ORP值達(dá)到管控標(biāo)準(zhǔn)后將該達(dá)標(biāo)的再生子液排放至再生子液儲存裝置內(nèi)，然后使再生液調(diào)配裝置內(nèi)經(jīng)調(diào)配好的藥液自動補(bǔ)加到該再生液引射吸收裝置的缸體內(nèi)；再生液引射吸收裝置產(chǎn)生及未處理完的尾氣通過氣體管道進(jìn)入低溫水簾吸收裝置進(jìn)行處理。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：再生液引射吸收裝置的缸體內(nèi)的藥液溫度在整個系統(tǒng)運(yùn)行過程中保持在15-25℃內(nèi)；再生子液儲存裝置的缸體內(nèi)的藥液溫度在整個系統(tǒng)運(yùn)行過程中保持在35-40℃內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S3中，所述氯氣回用再生裝置包括沿氣體流動方向依次設(shè)置的鈦離心風(fēng)機(jī)、引射管道混合器以及設(shè)置在引射管道混合器上的蝕刻機(jī)ORP控制器，依據(jù)蝕刻機(jī)ORP控制器檢測到的工作蝕刻液的ORP值來控制再生液引射吸收裝置內(nèi)多余的氯氣通過鈦離心風(fēng)機(jī)和引射管道混合器后，進(jìn)入在線酸性蝕刻機(jī)內(nèi)并與蝕刻工作液混合的量，保證在線工作蝕刻液的ORP值在工作范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S1中單膜雙室電解裝置內(nèi)進(jìn)行電解時，單膜雙室電解裝置上設(shè)置的高頻電源自動調(diào)整器與蝕刻機(jī)ORP控制器通過信息信號對電解槽進(jìn)行電流調(diào)整與電壓監(jiān)控，其能夠依據(jù)蝕刻機(jī)ORP控制器管控值遠(yuǎn)程調(diào)整單膜雙室電解裝置的電解電流，保證蝕刻機(jī)工作液的ORP值在工作范圍內(nèi)；且該蝕刻機(jī)ORP控制機(jī)監(jiān)測到工作蝕刻液ORP值偏低時，能同步啟動再生子液儲存裝置補(bǔ)加再生子液到在線酸性蝕刻機(jī)內(nèi)，保證工作蝕刻液的工作參數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S4中，低溫水簾吸收裝置是在15-20℃下通過水簾流動及氣體冷凝器將進(jìn)入該低溫水簾吸收裝置的氯氣和酸性氣體進(jìn)行吸收處理，該低溫水簾吸收裝置所產(chǎn)生的吸收液進(jìn)入動力波吸收裝置并用于該動力波吸收裝置內(nèi)吸收液的調(diào)配及回收鹽酸；未經(jīng)低溫水簾吸收裝置處理完的氯氣和酸性氣體進(jìn)入動力波吸收裝置內(nèi)經(jīng)動力波洗滌和噴淋溶解后，未處理完的氯氣和酸性氣體再進(jìn)入旋轉(zhuǎn)噴淋塔中使用堿性溶液進(jìn)行中和處理，處理后的尾氣達(dá)標(biāo)后排放。