[發明專利]酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生系統與工藝

在審

• 申請號: 202010736207.0
• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN111748826A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發明（設計）人: 張良
• 申請（專利權）人: 昆山科之源環保科技有限公司
• 主分類號: C25C1/12
• 分類號: C25C1/12;C25C7/04;C25B1/26;C25B9/08;C23F1/46
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1.一種酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于，主要包括下述步驟：

S1：在線酸性蝕刻機產生的待處理蝕刻廢液儲存于蝕刻廢液儲存裝置內，該待處理蝕刻廢液從蝕刻廢液儲存裝置內進入單膜雙室電解裝置并在其中通過正壓微滲透膜電解法進行循環電解反應，電解過程中待處理蝕刻廢液中的銅離子在陰極被還原為單質銅，同時陽極產生氯氣，且在電解過程中產生酸性氣體，其中單質銅后續經沉淀過濾取出；

S2：待處理蝕刻廢液經步驟S1進行電解后產生的電解液經再生液儲存裝置進行儲存后進入再生液調配裝置內，并結合廢液儲存裝置輸送過來的部分待處理蝕刻廢液進行組分調配后形成再生液；該再生液進入再生液引射吸收裝置，并與S1步驟中電解產生的氯氣中的部分進行氣液混合反應后形成再生子液，并通過液體管道將該再生子液輸送并儲存于再生子液儲存裝置內，該再生子液通過液體管道輸送并進入在線酸性蝕刻機所使用的工作蝕刻液中用于酸性蝕刻工序，形成蝕刻廢液的回用閉路循環；

S3：待處理蝕刻廢液經步驟S1進行電解后產生的氯氣除去用于S2步驟中進入再生液引射吸收裝置后的剩余部分，經氯氣回用再生裝置后進入在線酸性蝕刻機的工作蝕刻液中進行循環反應，保證工作蝕刻液的ORP值；

S4：在線酸性蝕刻機在停機和已滿足生產需求后，再生液引射吸收裝置內多余的氯氣和酸性氣體以及S1步驟中產生的酸性氣體依次進入低溫水簾吸收裝置、動力波吸收裝置和旋轉噴淋塔中進行吸收處理，處理后的尾氣達標后排放。

2.根據權利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S2中，通過再生液ORP控制器檢測再生液引射吸收裝置的缸體內藥液的ORP值來控制進入該裝置缸體內的氯氣與再生液的混合比例，使再生子液的ORP值達到管控標準后將該達標的再生子液排放至再生子液儲存裝置內，然后使再生液調配裝置內經調配好的藥液自動補加到該再生液引射吸收裝置的缸體內；再生液引射吸收裝置產生及未處理完的尾氣通過氣體管道進入低溫水簾吸收裝置進行處理。

3.根據權利要求2所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：再生液引射吸收裝置的缸體內的藥液溫度在整個系統運行過程中保持在15-25℃內；再生子液儲存裝置的缸體內的藥液溫度在整個系統運行過程中保持在35-40℃內。

4.根據權利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S3中，所述氯氣回用再生裝置包括沿氣體流動方向依次設置的鈦離心風機、引射管道混合器以及設置在引射管道混合器上的蝕刻機ORP控制器，依據蝕刻機ORP控制器檢測到的工作蝕刻液的ORP值來控制再生液引射吸收裝置內多余的氯氣通過鈦離心風機和引射管道混合器后，進入在線酸性蝕刻機內并與蝕刻工作液混合的量，保證在線工作蝕刻液的ORP值在工作范圍內。

5.根據權利要求4所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S1中單膜雙室電解裝置內進行電解時，單膜雙室電解裝置上設置的高頻電源自動調整器與蝕刻機ORP控制器通過信息信號對電解槽進行電流調整與電壓監控，其能夠依據蝕刻機ORP控制器管控值遠程調整單膜雙室電解裝置的電解電流，保證蝕刻機工作液的ORP值在工作范圍內；且該蝕刻機ORP控制機監測到工作蝕刻液ORP值偏低時，能同步啟動再生子液儲存裝置補加再生子液到在線酸性蝕刻機內，保證工作蝕刻液的工作參數。

6.根據權利要求1所述的酸性氯鹽蝕刻廢液單膜雙室電解銅及氯再生工藝，其特征在于：步驟S4中，低溫水簾吸收裝置是在15-20℃下通過水簾流動及氣體冷凝器將進入該低溫水簾吸收裝置的氯氣和酸性氣體進行吸收處理，該低溫水簾吸收裝置所產生的吸收液進入動力波吸收裝置并用于該動力波吸收裝置內吸收液的調配及回收鹽酸；未經低溫水簾吸收裝置處理完的氯氣和酸性氣體進入動力波吸收裝置內經動力波洗滌和噴淋溶解后，未處理完的氯氣和酸性氣體再進入旋轉噴淋塔中使用堿性溶液進行中和處理，處理后的尾氣達標后排放。