[發(fā)明專利]一種過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010735168.2 | 申請日: | 2020-07-28 |
| 公開(公告)號: | CN111883218A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李興冀;李偉奇;楊劍群;應(yīng)濤;魏亞東 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | G16C60/00 | 分類號: | G16C60/00 |
| 代理公司: | 北京隆源天恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11473 | 代理人: | 段守富 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 過渡 金屬 硫化物 非線性 光學(xué) 性質(zhì) 調(diào)控 方法 裝置 | ||
1.一種過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,包括:
將過渡金屬硫化物結(jié)構(gòu)中的一個(gè)原子替換為標(biāo)定原子,獲得新的原子晶格;
對所述新的原子晶格的晶格參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,獲得優(yōu)化后的晶格參數(shù);
根據(jù)所述優(yōu)化后的晶格參數(shù)依次進(jìn)行自洽計(jì)算和非自洽計(jì)算,獲得預(yù)處理后的晶格參數(shù),并根據(jù)所述預(yù)處理后的晶格參數(shù)確定電子帶隙;
根據(jù)所述預(yù)處理后的晶格參數(shù)進(jìn)行非自洽計(jì)算,獲得波函數(shù),并根據(jù)所述波函數(shù)進(jìn)行GW-BSE計(jì)算,獲得光學(xué)帶隙;
根據(jù)所述光學(xué)帶隙和所述電子帶隙確定帶隙差,并根據(jù)所述帶隙差確定修正參數(shù);
根據(jù)所述修正參數(shù)和預(yù)設(shè)的控制參數(shù)進(jìn)行模擬,獲得所述過渡金屬硫化物的多個(gè)二階非線性非零響應(yīng)光譜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,所述對所述新的原子晶格的晶格參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,獲得優(yōu)化后的晶格參數(shù)包括:
采用VASP軟件對所述新的原子晶格的晶格參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,通過模擬確定所述新的原子晶格能量最低點(diǎn)時(shí)的晶格參數(shù)模擬結(jié)果,根據(jù)所述晶格參數(shù)模擬結(jié)果確定所述優(yōu)化后的晶格參數(shù),其中,所述新的原子晶格能量最低點(diǎn)時(shí),a和c為所述優(yōu)化后的原子晶格的單胞邊長參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,所述根據(jù)所述優(yōu)化后的晶格參數(shù)依次進(jìn)行自洽計(jì)算和非自洽計(jì)算,獲得預(yù)處理后的晶格參數(shù),并根據(jù)所述預(yù)處理后的晶格參數(shù)確定電子帶隙包括:
根據(jù)所述優(yōu)化后的晶格參數(shù),采用Quantum Espresso軟件進(jìn)行自洽計(jì)算,獲得電荷密度;
根據(jù)所述電荷密度選定第一K點(diǎn),結(jié)合所述電荷密度,采用Quantum Espresso軟件進(jìn)行非自洽計(jì)算,獲得所述預(yù)處理后的晶格參數(shù),所述預(yù)處理后的晶格參數(shù)包括能帶;
根據(jù)所述能帶繪制所述能帶圖,并根據(jù)所述能帶圖確定所述電子帶隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,所述根據(jù)所述預(yù)處理后的晶格參數(shù)進(jìn)行非自洽計(jì)算,獲得波函數(shù)包括:
根據(jù)所述預(yù)處理后的晶格參數(shù),采用Quantum Espresso軟件進(jìn)行非自洽計(jì)算,獲得所述能帶上各個(gè)位置的所述波函數(shù);
選定第二K點(diǎn),采用所述第二K點(diǎn)劃分所述能帶,確定所述第二K點(diǎn)的波函數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,所述根據(jù)所述波函數(shù)進(jìn)行GW-BSE計(jì)算,獲得光學(xué)帶隙包括:
確定所述第一K點(diǎn)對應(yīng)的所述電子帶隙,對所述第一K點(diǎn)對應(yīng)的所述電子帶隙進(jìn)行收斂計(jì)算,獲得帶隙的平移值;
根據(jù)所述帶隙的平移值和所述第二K點(diǎn)的所述波函數(shù)進(jìn)行GW近似計(jì)算,獲得GW近似值;
結(jié)合預(yù)設(shè)的導(dǎo)帶數(shù)、預(yù)設(shè)的價(jià)帶數(shù)、預(yù)設(shè)的極化方向和所述GW近似值進(jìn)行BSE計(jì)算,獲得所述光學(xué)帶隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的過渡金屬硫化物非線性光學(xué)性質(zhì)的調(diào)控方法,其特征在于,所述根據(jù)所述修正參數(shù)和預(yù)設(shè)的控制參數(shù)進(jìn)行模擬,獲得所述過渡金屬硫化物的多個(gè)二階非線性非零響應(yīng)光譜包括:
采用Yambo軟件包中的yambo_nl模塊引入所述修正參數(shù),通過改變所述控制參數(shù)改變?nèi)肷涔獾娜肷浞较颍瑢λ鲞^渡金屬硫化物的非線性光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行模擬,獲得所述過渡金屬硫化物的多個(gè)二階非線性非零響應(yīng)光譜。
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