[發(fā)明專利]一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010734217.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112051240A | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁梓豪;趙琳琳;李明飛;孫曉潔;董鵬;鄧意成;劉院省;王學(xué)鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京航天控制儀器研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/47 | 分類號(hào): | G01N21/47;G01N21/49;G01N21/84;G01B11/24 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 張曉飛 |
| 地址: | 100854 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 散射 目標(biāo) 物體 進(jìn)行 成像 方法 | ||
1.一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,涉及的部件包括光源、空間光調(diào)制器、光強(qiáng)探測器、數(shù)字采集裝置和工控機(jī),其特征在于包括如下步驟:
步驟S1,從預(yù)設(shè)的一套編碼方案中選取一張調(diào)制圖案,使光源經(jīng)過調(diào)制器后,變成帶有該調(diào)制圖案的空間調(diào)制光;
步驟S2,令空間調(diào)制光照射到目標(biāo)物體上,然后在目標(biāo)物體表面反射或透過目標(biāo)物體;
步驟S3,從來自目標(biāo)物體的反射光或透射光中任選一路,經(jīng)散射進(jìn)入光強(qiáng)探測器,被轉(zhuǎn)化為光強(qiáng)信息;
步驟S4,將光強(qiáng)信號(hào)轉(zhuǎn)化為數(shù)字信號(hào),由數(shù)字采集裝置收集,傳入工控機(jī);
步驟S5,重復(fù)步驟S1-S4,在工控機(jī)內(nèi)存儲(chǔ)一系列光強(qiáng)信息;
步驟S6,在工控機(jī)內(nèi)利用采集的光強(qiáng)序列,根據(jù)編碼方案通過反解算法重構(gòu)出目標(biāo)物體的一幀圖像;
步驟S7,重復(fù)S1-S6,重構(gòu)出目標(biāo)物體的下一幀圖像,完成對(duì)目標(biāo)物體實(shí)時(shí)成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:所述空間光調(diào)制器采用LED或光柵或微鏡陣列或毛玻璃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:所述編碼方案采用正交基組一類的編碼方案,包括Hadamard、DCT、FFT、小波變換正交基組。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:所述編碼方案具體為:將正交基組中的每一個(gè)正交基向量排列為二維圖案,并將圖案按一定順序排列,得到編碼方案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:所述步驟S3中,在極弱光條件下,采用單光子雪崩二極管作為光強(qiáng)探測器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:通過一系列有序的調(diào)制光照射和信號(hào)采集,獲取成像所需的完整或大部分信息。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用散射光對(duì)目標(biāo)物體進(jìn)行成像的方法,其特征在于:通過反解算法,根據(jù)采集到的光強(qiáng)度序列,重構(gòu)得到目標(biāo)物體的圖像。
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- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 目標(biāo)檢測裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測系統(tǒng)及目標(biāo)檢測方法
- 目標(biāo)監(jiān)測方法、目標(biāo)監(jiān)測裝置以及目標(biāo)監(jiān)測程序
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- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
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- 目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)及目標(biāo)跟蹤方法





