[發明專利]用于精準面型控制的人工晶狀體制造方法及人工晶狀體在審
| 申請號: | 202010732335.8 | 申請日: | 2020-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN113995552A | 公開(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發明(設計)人: | 趙昭 | 申請(專利權)人: | 河南賽美視生物科技有限公司 |
| 主分類號: | A61F2/16 | 分類號: | A61F2/16;G06F30/20;G06V10/44 |
| 代理公司: | 北京市路盛律師事務所 11326 | 代理人: | 安文森;郝聰慧 |
| 地址: | 450001 河南省鄭州市鄭州高新*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 精準 控制 人工 晶狀體 制造 方法 | ||
1.一種用于精準面型控制的人工晶狀體制造方法,其特征在于,包括如下步驟:
S11:獲取人工晶狀體的光學面型目標模型,并基于所述光學面型目標模型進行光學加工以得到人工晶狀體;
S12:對所述人工晶狀體的光學面型進行實際測量,獲取實際測量面型輪廓數據;
S13:基于所述實際測量面型輪廓數據進行數學建模,反演生成人工晶狀體的光學面型實際模型;
S14:判斷所述光學面型實際模型是否達到面型控制要求;若所述光學面型實際模型未達到所述面型控制要求,則對所述光學面型目標模型中的一個或多個參數進行優化,確定優化后的所述光學面型目標模型,返回執行步驟S11,直到所述光學面型實際模型達到所述面型控制要求為止;
S15:對達到所述面型控制要求的人工晶狀體,判斷是否達到預設性能指標;若未滿足所述預設性能指標,則進行模型補償調整優化,并返回執行S11,直到所述人工晶狀體滿足所述預設性能指標為止。
2.根據權利要求1所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,在步驟S11獲取人工晶狀體的光學面型目標模型之前還包括:根據人工晶狀體的技術指標,確定光學面型目標模型。
3.根據權利要求1或2所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,步驟S13中基于所述實際測量面型輪廓數據進行數學建模,反演生成人工晶狀體的光學面型實際模型包括:
根據所述光學面型目標模型確定面型曲線;
將所述實際測量面型輪廓數據作為所述面型曲線的擬合數據,進行數據反演生成光學面型實際曲線。
4.根據權利要求3所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,將所述實際測量面型輪廓數據作為所述面型曲線的擬合數據,進行數據反演生成光學面型實際曲線包括:
將所述實際測量面型輪廓數據作為所述面型曲線的擬合數據,采用最小二乘法進行數據反演生成面型曲線模型。
5.根據權利要求3所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,根據所述光學面型目標模型確定面型曲線包括:
若為球面或非球面人工晶狀體,則光學面型相對應為球面或非球面,確定面型曲線為:
其中,z為光學表面矢高值,k為圓錐系數,c為曲率,為曲率半徑的倒數,r為透鏡上的點偏離y軸的徑向距離,a2、a4、a6…為非球面系數,當k及非球面系數均為0時,該面型表征為球面;反之,則表示非球面;
若為散光人工晶狀體,則光學面型規劃為復曲面,確定面型曲線為:
其中,Z為復曲面的矢高,cx,cy分別為兩個復曲面子午線的曲率,為曲率半徑的倒數,kx、ky為兩個復曲面主子午線的圓錐系數,r為距離透鏡中心的軸向距離,θ為子午線角;
若為雙焦點、三焦點、延展焦深型人工晶狀體,則光學面型規劃為不同環帶、不同臺階高度組合的衍射面型,或折/衍射混合面型。
6.根據權利要求1或2所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,所述人工晶狀體的光學面型包括呈前后分布的第一光學面型和第二光學面型,對所述光學面型目標模型中的一個或多個參數進行優化,確定優化后的所述光學面型目標模型包括:
根據實際參數與預設性能指標的差異性,對所建立的數學模型進行迭代優化補償,其中包括對所述第一光學面型和/或所述第二光學面型中的一個或多個參數進行優化。
7.根據權利要求1或2所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,獲取光學面型目標模型,并基于所述光學面型目標模型進行光學加工包括:
根據所述光學面型目標模型確定加工參數,采用單點金剛石數控車削機床進行光學加工。
8.根據權利要求1或2所述的人工晶狀體制造方法,其特征在于,S12中對所述人工晶狀體中光學面型進行實際測量,獲取實際測量面型輪廓數據包括:
采用接觸式或非接觸式對所述人工晶狀體的光學面型進行實際測量,獲取所述實際測量面型輪廓數據。
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