[發明專利]超聲波指紋感測架構

在審

• 申請號: 202010732227.0
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN111738219A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發明（設計）人: 王地寶;范成至
• 申請（專利權）人: 神盾股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;H01P3/16
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張娜;劉芳

1.一種超聲波指紋感測架構，其特征在于，包括：

基板；

多個超聲波收發器，設置在所述基板上；以及

波導層，形成在所述基板上，并且包括多個波導，其中所述多個波導內部填充有第一材料，并且所述多個波導外部填充有第二材料，所述第一材料的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗，

其中所述多個波導在聲波傳遞方向上分別對應于所述多個超聲波收發器。

2.根據權利要求1所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

第一黏著層，形成在所述波導層與所述基板之間，其中所述第一黏著層的聲波阻抗接近所述第一材料。

3.根據權利要求2所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

保護層，形成在所述波導層上方，其中所述保護層的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗。

4.根據權利要求3所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層為透明材料。

5.根據權利要求3所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層為非透明材料。

6.根據權利要求3所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

第二黏著層，形成在所述波導層與所述保護層之間，其中所述第二黏著層的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗。

7.根據權利要求1所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

保護層，形成在所述波導層上方，其中所述保護層的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗。

8.根據權利要求7所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

第二黏著層，形成在所述波導層與所述保護層之間，其中所述第二黏著層的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗。

9.根據權利要求7所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層為透明材料。

10.根據權利要求7所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層為非透明材料。

11.根據權利要求7所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層與所述第一材料為不同材料。

12.根據權利要求7所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，所述保護層與所述第一材料為相同材料。

13.根據權利要求12所述的超聲波指紋感測架構，其特征在于，還包括：

第一黏著層，形成在所述波導層與所述基板之間，其中所述第一黏著層的聲波阻抗大于所述第二材料的聲波阻抗。