[發明專利]防眩光玻璃及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 202010730948.8
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN112028500B
• 公開（公告）日: 2023-01-10
• 發明（設計）人: 張迅;易偉華;黃建波
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: C03C23/00
• 分類號: C03C23/00;C03C15/00
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 林青中

本發明涉及一種防眩光玻璃及其制備方法和應用。上述防眩光玻璃的制備方法包括如下步驟：對玻璃基板的一側進行黃光工藝處理，在玻璃基板上形成多個均勻且間隔分布的光阻圖案；對玻璃基板形成有光阻圖案的一側進行氫氟酸蝕刻，玻璃基板上未形成有光阻圖案的部分被蝕刻；對玻璃基板形成有光阻圖案的一側進行防眩光處理，除去多個光阻圖案并在玻璃基板上形成多個晶粒凸起，制備防眩光玻璃。上述防眩光玻璃的制備方法能夠提高制備得到的防眩光玻璃表面的晶粒凸起的分布均勻性和大小均一性。

技術領域

本發明涉及玻璃領域，特別是涉及一種防眩光玻璃及其制備方法和應用。

背景技術

傳統的玻璃在經過防眩光(AG)處理后，會在玻璃的AG面上形成多個小顆粒晶體凸起而使玻璃表面凹凸不平，由于形成的多個晶粒凸起存在大小不相等、分布不均勻的問題，不利于后續工藝的處理。

發明內容

基于此，有必要提供一種能夠提高玻璃表面的晶粒凸起的分布均勻性和大小均一性的防眩光玻璃的制備方法。

此外，還有必要提供一種防眩光玻璃及其應用。

一種防眩光玻璃的制備方法，包括如下步驟：

對玻璃基板的一側進行黃光工藝處理，在所述玻璃基板上形成多個間隔且均勻分布的光阻圖案；

對所述玻璃基板形成有所述光阻圖案的一側進行氫氟酸蝕刻，所述玻璃基板上未形成有所述光阻圖案的部分被蝕刻；及

對所述玻璃基板形成有所述光阻圖案的一側進行防眩光處理，除去多個所述光阻圖案并在所述玻璃基板上形成多個晶粒凸起，制備防眩光玻璃。

在其中一個實施例中，所述對玻璃基板的一側進行黃光工藝處理的步驟包括：

在所述玻璃基板上形成光阻層；

對所述光阻層進行曝光、顯影，以除去部分所述光阻層，形成多個間隔且均勻分布的所述光阻圖案。

在其中一個實施例中，所述對玻璃基板的一側進行黃光工藝處理的步驟之前，還包括：在所述玻璃基板的一側層疊耐酸膜，所述光阻層形成在所述耐酸膜遠離所述玻璃基板的一側，所述對玻璃基板的一側進行黃光工藝處理的步驟還包括：對所述玻璃基板進行蝕刻，未被所述光阻圖案保護的所述耐酸膜被蝕刻，在所述玻璃基板上形成多個間隔且均勻分布的耐酸膜凸起，每個所述光阻圖案層疊在一個所述耐酸膜凸起上。

在其中一個實施例中，所述耐酸膜的厚度為300nm～450nm；及/或，所述耐酸膜為鉬膜或銅膜。

在其中一個實施例中，所述光阻圖案為圓柱形，直徑為6μm～9μm，相鄰兩個所述光阻圖案的間距為13μm～16μm。

在其中一個實施例中，在所述氫氟酸蝕刻的步驟中，蝕刻的深度為3μm～6μm。

在其中一個實施例中，所述防眩光處理的步驟包括：先用AG藥液對所述玻璃基板形成有所述光阻圖案的一側進行蒙砂處理，然后用氫氟酸對蒙砂處理后的所述玻璃基板進行化學拋光。

在其中一個實施例中，所述AG藥液包括質量比為25：(3～8)的蒙砂粉和水。

在其中一個實施例中，所述化學拋光的步驟中，拋光量為20μm～30μm。

一種防眩光玻璃，由上述的防眩光玻璃的制備方法制備。

在其中一個實施例中，所述晶粒凸起的最大寬度為8μm～21μm。

上述的防眩光玻璃在制備顯示器件的面板中的應用。