[發(fā)明專利]片材搬送裝置以及片材搬送介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010730169.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113173435A | 公開(公告)日: | 2021-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 荒木裕一;前田祥一;渡邊潔;北澤由之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號(hào): | B65H1/04 | 分類號(hào): | B65H1/04;B65H7/02 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊文娟;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 片材搬送 裝置 以及 介質(zhì) | ||
1.一種片材搬送裝置,其特征在于,包括處理器,
所述處理器在探測(cè)到在托盤上浮起而交接的片材的剩余量為少量時(shí),將使所述片材上升的上升控制由通常狀態(tài)控制變更為少量狀態(tài)控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的片材搬送裝置,其中
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中探測(cè)到所述剩余量減少了規(guī)定量時(shí),使所述片材上升比所述通常狀態(tài)控制中的上升量多的少量狀態(tài)上升量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器以不同的方式來探測(cè)所述剩余量為少量的情況與所述剩余量減少了規(guī)定量的情況。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器基于從變更為所述少量狀態(tài)控制后自所述托盤搬出的片材的數(shù)量,來探測(cè)所述剩余量減少了規(guī)定量的情況。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的片材搬送裝置,其特征在于,
就用于所述探測(cè)的片材的數(shù)量而言,所述片材的厚度薄的情況下比所述片材的厚度厚的情況下多。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,基于根據(jù)所述托盤上的片材的高度而上升的所述托盤的上升量,來探測(cè)所述剩余量減少了規(guī)定量的情況。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,控制用于使所述片材浮起的空氣的噴吹量來使所述片材上升。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,控制所述托盤的上升量來使所述片材上升。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,使所述托盤的上升量在所述片材的厚度厚的情況下比所述片材的厚度薄的情況下多。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,使所述托盤的上升量在所述片材的寬度尺寸寬的情況下比所述片材的寬度尺寸窄的情況下多。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述少量狀態(tài)控制中,使所述托盤的上升量在所述片材的長(zhǎng)度尺寸長(zhǎng)的情況下比所述片材的長(zhǎng)度尺寸短的情況下多。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的片材搬送裝置,其特征在于,
所述處理器在所述托盤上升到比基準(zhǔn)高度高出超過量的位置的情況下,在使所述托盤上升比所述通常狀態(tài)控制中的上升量多的少量狀態(tài)上升量時(shí),使所述托盤上升從所述少量狀態(tài)上升量減去所述超過量所得的減算量,所述基準(zhǔn)高度為用于探測(cè)在從所述托盤開始所述片材的搬出之前的所述少量。
13.一種片材搬送介質(zhì),其特征在于,使計(jì)算機(jī)執(zhí)行下述處理,即:
當(dāng)探測(cè)到在托盤上浮起而交接的片材的剩余量為少量時(shí),將使所述片材上升的上升控制由通常狀態(tài)控制變更為少量狀態(tài)控制。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司,未經(jīng)富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010730169.8/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:半導(dǎo)體裝置及其制造方法
- 下一篇:屏幕殘影的測(cè)試方法
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





