[發明專利]校正來自不同分析測量裝置的兩個測量值的方法和測量點

在審

• 申請號: 202010730127.4
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN112305035A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 埃里克·亨寧斯;達格瑪拉·卡舒巴;馬爾科·貝松
• 申請（專利權）人: 恩德萊斯和豪瑟爾分析儀表兩合公司
• 主分類號: G01N27/30
• 分類號: G01N27/30;G01N27/333;G01N27/416;G01N27/42;G01N27/48;G01N27/06
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 穆森;戚傳江

1.一種用于校正第一分析測量裝置(2)的第一被測變量(G1)的第一測量值(M1)和第二分析測量裝置(3)的第二被測變量(G2)的第二測量值(M2)的方法，其中所述第一分析測量裝置(2)對所述第二被測變量(G2)具有交叉敏感性，所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)具有交叉敏感性，所述方法包括以下步驟：

-提供測量點(1)，所述測量點包括：

ο所述第一分析測量裝置(2)，所述第一分析測量裝置適于確定所述第一被測變量(G1)的所述第一測量值(M1)，

ο所述第二分析測量裝置(3)，所述第二分析測量裝置適于確定不同于所述第一被測變量(G1)的所述第二被測變量(G2)的所述第二測量值(M2)，

ο所述第三分析測量裝置(4)，所述第三分析測量裝置適于確定不同于所述第一被測變量(G1)和所述第二被測變量(G2)的第三被測變量(G3)的第三測量值(M3)，以及

ο控制單元(5)，所述控制單元被連接到所述第一分析測量裝置(2)、所述第二分析測量裝置(3)和所述第三分析測量裝置(4)，

ο所述第一分析測量裝置(2)對所述第二被測變量(G2)具有交叉敏感性，并且所述第一測量值(M1)對所述第三測量值(M3)具有依賴性，

ο所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)具有交叉敏感性，

ο所述第三分析測量裝置(4)對所述第一被測變量(G1)或所述第二被測變量(G2)不具有任何交叉敏感性，

-借助于所述第一分析測量裝置(2)確定所述第一測量值(M1)，

-借助于所述第二分析測量裝置(3)確定所述第二測量值(M2)，

-借助于所述第三分析測量裝置(4)確定所述第三測量值(M3)，

-通過考慮所述第一測量值(M1)、所述第二測量值(M2)、所述第一分析測量裝置(2)對所述第二被測變量(G2)的交叉敏感性，借助于所述控制單元(5)計算校正后的第一測量值(KM1)并補償所述第一測量值(M1)對所述第三測量值(M3)的所述依賴性，

-通過考慮所述第一測量值(M1)、所述第二測量值(M2)和所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)的交叉敏感性，借助于所述控制單元(5)計算校正后的第二測量值(KM2)并補償所述第一測量值(M1)對所述第三測量值(M3)的所述依賴性。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，使用以下公式來計算所述校正后的第一測量值(KM1)：

其中，M1是所述第一測量值，

其中，M2是所述第二測量值，

其中，Q1是映射所述第一分析測量裝置(2)對所述第二被測變量(G2)的所述交叉敏感性的第一交叉敏感性系數，

其中，Q2是映射所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)的所述交叉敏感性以及所述第一測量值(M1)對所述第三測量值(M3)的所述依賴性的第二交叉敏感性系數。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，使用以下公式計算所述校正后的第二測量值(KM2)：

其中，M1是所述第一測量值，

其中，M2是所述第二測量值，

其中，Q1是映射所述第一分析測量裝置(2)對所述第二被測變量(G2)的所述交叉敏感性的第一交叉敏感性系數，

其中，Q2是映射所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)的所述交叉敏感性以及所述第一測量值(M1)對所述第三測量值(M3)的所述依賴性的第二交叉敏感性系數。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中，使用以下公式來計算所述第二交叉敏感性系數(Q2)：

其中，Q3是映射所述第二分析測量裝置(3)對所述第一被測變量(G1)的所述交叉敏感性的第三交叉敏感性系數，

其中，pKs是所述第一被測變量(G1)的酸度常數，

其中，M3是所述第三測量值。