[發明專利]地圖繪制方法、系統、終端及存儲介質

在審

• 申請號: 202010730100.5
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN111815740A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 郁強;楊子初;胡建華;劉仁萬;李紹光
• 申請（專利權）人: 城云科技（中國）有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20;G06F3/0484
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 高科

1.地圖繪制方法，其特征在于，包括如下步驟：

在原地圖圖層上增加新圖層；

在新圖層上監測點擊，新圖層上持續監聽被點擊處，響應于所述新圖層上的點擊事件，并在該點擊處形成繪制點，依照繪制點的生成順序自動生成直線段構成初始線段；

其中，初始線段上繪制點包括拐點、起始點和終點，初始線段至少包括一個直線段，一直線段上的兩繪制點之間在該直線段上自動生成待移動點，待移動點被選中后形成新拐點并生成新的待移動點；

移動初始線段上的繪制點或待移動點，使之在新圖層上的位置和原地圖圖層上的預繪制處對應；

移動起始點或終點中一點使得起始點或終點合并形成閉合區域或者繪制至少一條初始線段和原初始線段圍成閉合區域；

保存新圖層，將新圖層繪制的閉合區域覆蓋原地圖圖層的預繪制對應區域。

2.根據權利要求1所述的地圖繪制方法，其特征在于，一新圖層至少具有一個閉合區域構成。

3.根據權利要求2所述的地圖繪制方法，其特征在于，一新圖層上兩閉合區域相互獨立或至少公用一直線段。

4.根據權利要求1所述的地圖繪制方法，其特征在于，移動初始線段上的直線段或刪除拐點，使之在新圖層上的位置和原地圖圖層上的預繪制處對應；

刪除拐點時，拐點兩端的直線位置不變動或該拐點相接的兩直線段合并為一直線段。

5.根據權利要求1-4任意一所述的地圖繪制方法，其特征在于，每一繪制點均具有吸附范圍，移動繪制點至另一繪制點的吸附范圍，被移動繪制點合并至另一繪制點，繪制點吸附范圍不小于0。

6.根據權利要求5所述的地圖繪制方法，其特征在于，移動繪制點包括拖動移動點或坐標校正移動點：

拖動移動點，選中繪制點將繪制點或直線段移動至圖層的另一位置；

坐標校正移動點，選中繪制點輸入坐標參數，將繪制點移動至坐標參數所對應的位置。

7.根據權利要求5所述的地圖繪制方法，其特征在于，待移動點為直線段上的中心點。

8.根據權利要求5所述的地圖繪制方法，其特征在于，保存該圖層或圖層上的繪制區域覆蓋原有地圖后，將繪制的地圖圖層數據保存為geojson格式數據。

9.地圖繪制系統，其特征在于，所述系統包括：

圖層生成單元，用于在地圖繪時增加繪制圖層或刪除繪制圖層；

繪制單元，包括：

繪制點生成模塊，監聽圖層上的被點擊處并對應生成繪制點；

初始線段生成模塊，依照繪制點的生成順序自動生成直線段構成初始線段；

直線段修正模塊，根據移動繪制點生成新的直線段；

待移動點生成模塊，在直線段上生成待移動點；

修改單元，包括：

拖動模塊，選中繪制點將繪制點或直線段移動至圖層的另一位置；

位置修正模塊，選中繪制點輸入坐標參數，將繪制點移動至坐標參數所對應的位置；

刪除模塊，刪除拐點、直線段、初始初始線段或圖層。

吸附模塊，將在一定間距中的至少兩個繪制點合并為一繪制點；

覆蓋單元，用于將至少兩個圖層融合為一個圖層，并將新繪制內容替換掉原始對應內容。

10.根據權利要求9所述的地圖繪制系統，其特征在于，所述系統還包括：磁力范圍修改模塊，用于修改繪制點至另一繪制點在同一圖層上融合為一點的距離值。

11.一種終端，其特征在于，所述終端包括處理器和存儲器，所述存儲器中存儲有至少一條指令、至少一段程序、代碼集或指令集，所述至少一條指令、所述至少一段程序、所述代碼集或指令集由所述處理器執行以實現如權利要求1-8任一項權利要求所述的地圖繪制方法。

12.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質中存儲有至少一條指令、至少一段程序、代碼集或指令集，所述至少一條指令、所述至少一段程序、所述代碼集或指令集由處理器執行以實現如權利要求1-8任一項權利要求所述的地圖繪制方法。