[發(fā)明專利]掩模支撐模板、掩模支撐模板的制造方法及框架一體型掩模的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010729950.3 | 申請日: | 2020-07-27 |
| 公開(公告)號: | CN112442654A | 公開(公告)日: | 2021-03-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李裕進 | 申請(專利權)人: | 悟勞茂材料公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產(chǎn)權代理有限公司 11327 | 代理人: | 姜虎;陳英俊 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐 模板 制造 方法 框架 體型 | ||
本發(fā)明涉及掩模支撐模板、掩模支撐模板的制造方法及框架一體型掩模的制造方法。本發(fā)明涉及的掩模支撐模板(template)用于支撐OLED像素形成用掩模并將該掩模對應到框架上,該掩模支撐模板包括:模板;臨時粘合部,其形成于模板上;以及掩模,其通過夾設臨時粘合部粘合在模板上且形成有掩模圖案。
技術領域
本發(fā)明涉及掩模支撐模板、掩模支撐模板的制造方法及框架一體型掩模的制造方法。更具體地,本發(fā)明涉及一種使掩模不發(fā)生變形且可穩(wěn)定地得到支撐并移動,且能夠準確地對準(align)各掩模的掩模支撐模板、掩模支撐模板的制造方法及框架一體型掩模的制造方法。
背景技術
作為OLED制造工藝中形成像素的技術,主要使用FMM(Fine Metal Mask,精細金屬掩模)方法,該方法將薄膜形式的金屬掩模(Shadow Mask,陰影掩模)緊貼到基板且在所需位置上蒸鍍有機物。
在現(xiàn)有的OLED制造工藝中,將掩模制造成條狀、板狀等后,將掩模焊接固定到OLED像素蒸鍍框架上并使用。一個掩模上可以具備與一個顯示器對應的多個單元。另外,為了制造大面積OLED,可將多個掩模固定于OLED像素蒸鍍框架,在固定于框架的過程中,拉伸各個掩模以使其變得平坦。調(diào)節(jié)拉伸力以使掩模的整體部分變得平坦是非常困難的作業(yè)。尤其為了一邊使各單元都平坦化且一邊對準尺寸為數(shù)~數(shù)十μm的掩模圖案,需要進行如下高難度作業(yè):一邊細微地調(diào)節(jié)施加于掩模各側的拉伸力,一邊實時地確認對準狀態(tài)。
盡管如此,在將多個掩模固定于一個框架過程中,仍然存在掩模之間及掩模單元之間對準不好的問題。另外,在將掩模焊接固定于框架的過程中,掩模膜的厚度過薄且面積大,因此存在掩模因荷重而下垂或者扭曲的問題;由于焊接過程中在焊接部分產(chǎn)生的皺紋、毛刺(burr)等,導致掩模單元的對準不準的問題等。
在超高畫質(zhì)的OLED中,現(xiàn)有QHD畫質(zhì)為500-600PPI(pixel per inch,每英寸像素),像素的尺寸達到約30-50μm,而4K UHD、8K UHD高畫質(zhì)具有比其更高的~860PPI、~1600PPI等的分辨率。如此,考慮到超高畫質(zhì)的OLED的像素尺寸,需要將各單元之間的對準誤差縮減為數(shù)μm左右,超出這一誤差將導致產(chǎn)品的不良,所以收率可能極低。因此,需要開發(fā)能夠防止掩模的下垂或者扭曲等變形并使對準精確的技術以及將掩模固定于框架的技術等。
發(fā)明內(nèi)容
技術問題
因此,本發(fā)明為了解決如上所述的現(xiàn)有技術的各種問題而提出,其目的在于提供一種可使掩模不發(fā)生變形且穩(wěn)定地得到支撐并移動,而且可防止掩模發(fā)生下垂或者扭曲等變形,并可準確地對準的掩模支撐模板、掩模支撐模板的制造方法及框架一體型掩模的制造方法。
此外,本發(fā)明的目的在于提供一種可明顯縮短制造時間并顯著提高收率的框架一體型掩模的制造方法。
技術方案
本發(fā)明的上述目的通過掩模支撐模板來實現(xiàn),該模板(template)用于支撐OLED像素形成用掩模并將該掩模對應到框架上,該掩模支撐模板包括:模板;臨時粘合部,其形成在模板上;以及掩模,其通過夾設臨時粘合部粘合在模板上且形成有掩模圖案,模板的熱膨脹系數(shù)低于掩模。
掩模的熱膨脹系數(shù)可以至少大于1。
模板的熱膨脹系數(shù)可以小于1且大于0。
臨時粘合部可以為基于加熱可分離的粘合劑、基于照射UV可分離的粘合劑。
臨時粘合部可以為液蠟。
常溫下掩模可以被施以側面方向的拉伸力的狀態(tài)粘合到模板上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于悟勞茂材料公司,未經(jīng)悟勞茂材料公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010729950.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





