[發明專利]一種半導體激光器返修加熱裝置及其使用方法

在審

• 申請號: 202010728605.8
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN111715965A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 毛勝杰;李艷青;李程;黃寧博;侯作為
• 申請（專利權）人: 河南仕佳信息技術研究院有限公司
• 主分類號: B23K3/00
• 分類號: B23K3/00;B23K3/047
• 代理公司: 鄭州優盾知識產權代理有限公司 41125
• 代理人: 鄭園

1.一種半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，包括底座（2），底座（2）上設有激光器定位機構和激光器加熱機構，且激光器定位機構與底座（2）滑動連接；所述激光器定位機構的上部滑動設置在激光器加熱機構內，且激光器加熱機構的上部與激光器定位機構的上部相配合；所述激光器加熱機構內設有將半導體激光器與空氣相隔絕的排氣隔離件。

2.根據權利要求1所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述激光器定位機構包括推塊（15），推塊（15）滑動設置在激光器加熱機構上，推塊（15）的下部通過連接件與復位機構相連接；所述復位機構滑動設置在底座（2）內，連接件上設有推桿（7）。

3.根據權利要求2所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述復位機構包括彈簧和導向桿（6），底座（2）的中部設有滑槽（2-4），導向桿（6）設置在滑槽（2-4）內，導向桿（6）上穿設有滑塊（5），滑塊（5）的上部與連接件固定連接；所述彈簧套設在導向桿（6）上，彈簧的一端與底座（2）固定連接，彈簧的另一端與滑塊（5）固定連接。

4.根據權利要求1或2或3所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述激光器加熱機構包括加熱座（11）和支撐平臺（12），加熱座（11）和支撐平臺（12）均是由導熱材料制成的導熱平臺，且加熱座（11）內設有加熱棒（10）；所述支撐平臺（12）固定設置在加熱座（11）上，支撐平臺（12）的一側設有擋塊（13），支撐平臺（12）的另一側設有第一活動槽（12-2），且支撐平臺（12）上設有若干個出氣孔（12-1）；所述加熱座（11）設置底座（2）上，加熱座（11）的中部設有通孔（11-2），通孔（11-2）的一側設有第二活動槽（11-1）；所述第一活動槽（12-2）和第二活動槽（11-1）相對應，激光器定位機構設置在第一活動槽（12-2）和第二活動槽（11-1）內，且擋塊（13）與激光器定位機構的上部相配合；所述排氣隔離件設置在通孔（11-2）內，且排氣隔離件與出氣孔（12-1）相配合。

5.根據權利要求4所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述排氣隔離件包括氮氣進氣管（8），氮氣進氣管（8）的進氣端通過第一閥門與氮氣源相連接，氮氣進氣管（8）的出氣端設置在通孔（11-2）內，且出氣端與出氣孔（12-1）相配合。

6.根據權利要求1或5所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述底座（2）上還設有萬向調節架（19），萬向調節架（19）上設有氮氣噴氣頭（19-8），氮氣噴氣頭（19-8）與半導體激光器相對應。

7.根據權利要求6所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述萬向調節架（19）包括至少一組萬向調節座，萬向調節座的一側通過第一萬向連接桿（19-1）與底座（2）相連接，萬向調節座的另一側通過萬向噴氣桿（19-7）與氮氣噴氣頭（19-8）相連接。

8.根據權利要求7所述的半導體激光器返修加熱裝置，其特征在于，所述萬向調節座的組數為兩組，且每組萬向調節座均包括至少兩個萬向球（19-3），兩個萬向球（19-3）的兩側對稱設有萬向壓塊（19-2），兩個萬向壓塊（19-2）上均設有萬向孔（19-4），每個萬向壓塊（19-2）上的萬向孔（19-4）的數量均與萬向球（19-3）的數量一致，兩個萬向球（19-3）分別設置在兩個萬向壓塊（19-2）的相對應的萬向孔（19-4）中，且兩個萬向壓塊（19-2）的中部通過調節件相連接；第一組萬向調節座的一個萬向球（19-3）與第一萬向連接桿（19-1）相連接，另一個萬向球（19-3）通過第二萬向連接桿（19-5）與第二組萬向調節座的一個萬向球（19-3）相連接；第二組萬向調節座的另一個萬向球（19-3）與第三萬向連接桿（19-6）相連接，且第三萬向連接桿（19-6）與萬向噴氣桿（19-7）連接。