[發明專利]一種烤箱和料盤循環方法

在審

• 申請號: 202010725030.4
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN112539633A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發明（設計）人: 彭富國;李鑫
• 申請（專利權）人: 湖南三興精密工業股份有限公司
• 主分類號: F26B15/02
• 分類號: F26B15/02;F26B23/00;F26B25/00;F26B25/02;F26B25/18;C03C17/00
• 代理公司: 廣東良馬律師事務所 44395
• 代理人: 鐘有為

1.一種烤箱，具有烘烤區和冷卻區，其特征在于，所述烘烤區內設有料盤；

所述烘烤區包括第一上料區、第一料盤上升區、第一料盤下降區和第一下料區；

所述烘烤區設有第一料盤循環機構；所述第一料盤循環機構包括位于所述烘烤區上方，且用于將位于所述第一料盤上升區頂部的料盤移轉至所述第一料盤下降區的第一料盤移轉機構，和，位于所述烘烤區下方，且用于將位于所述第一料盤下降區的料盤移轉至所述第一料盤上升區的第二料盤移轉機構；

所述第一料盤循環機構還包括用于驅動所述料盤上升或下降的第一料盤升降機構。

2.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤移轉機構包括夾爪和導軌，所述夾爪用于夾持住位于所述第一料盤上升區頂部的料盤，并帶動其沿所述導軌移動，以將所夾持的料盤移轉至所述第一料盤下降區的頂部。

3.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第一上料區位于所述第一料盤上升區的下方，所述第一下料區位于所述第一料盤下降區的下方；所述第二料盤移轉機構用于將位于所述第一下料區的料盤移轉至所述第一上料區。

4.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述烤箱還包括上料機構和第一下料機構；所述上料機構用于將產品搬運至位于所述第一上料區的料盤內；所述第一下料機構，用于將位于所述第一下料區的料盤內的產品取出。

5.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第二料盤移轉機構包括電機和傳送帶，所述第二料盤移轉機構用于將位于所述第一下料區的料盤移轉至所述第一上料區。

6.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述料盤的邊框開設有通孔。

7.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述料盤呈方形，所述料盤的四角具有凸臺，多個所述料盤疊放時，所述凸臺的臺面抵接相鄰的料盤；兩相鄰料盤的邊框之間形成有間隙。

8.如權利要求7所述的烤箱，其特征在于，所述凸臺上設有定位凸起和定位凹槽，多個所述料盤疊放時，相鄰料盤的所述定位凸起與所述定位凹槽相匹配。

9.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤上升區設有第一料盤支撐機構，所述第一料盤支撐機構包括第一支撐部，所述第一支撐部位于所述第一料盤上升區的底部，以抵接并支撐位于所述第一料盤上升區底部的料盤。

10.如權利要求9所述的烤箱，其特征在于，所述第一支撐部可釋放所述料盤。

11.如權利要求10所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤升降機構包括位于所述第一上料區下方的第一頂升機構；所述第一頂升機構用于與所述第一支撐部配合，以將位于所述第一上料區的料盤頂升至所述第一料盤上升區，并由所述第一料盤支撐機構支撐。

12.如權利要求11所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤支撐機構還包括驅動機構，以驅動所述第一支撐部上下移動。

13.如權利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤下降區設有第二料盤支撐機構，所述第二料盤支撐機構包括第二支撐部，所述第二支撐部位于所述第一料盤下降區的底部，以抵接并支撐位于所述第一料盤下降區底部的料盤。

14.如權利要求13所述的烤箱，其特征在于，所述第二支撐部可釋放所述料盤。

15.如權利要求14所述的烤箱，其特征在于，所述第一料盤升降機構還包括位于所述第一下料區下方的第二頂升機構，所述第二頂升機構用于與所述第二支撐部配合，以承接并將位于所述第一料盤下降區底部的料盤下放至所述第一下料區。