[發(fā)明專利]一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法及其應(yīng)用在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010724912.9 | 申請(qǐng)日： | 2020-07-24 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111847575A | 公開（公告）日： | 2020-10-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 翟朝霞;劉劍橋;符策;金國華;田新月;洪葉;高歌;孟祥旭;何甜甜 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 大連海事大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C02F1/32 | 分類號(hào)： | C02F1/32;C02F1/40;B01J23/14;C09K11/66;B82Y20/00;C02F101/32;C02F103/08 |
| 代理公司： | 大連至誠專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21242 | 代理人： | 楊威;劉麗媛 |
| 地址： | 116000 遼寧省*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 氧化 光催化 量子 清除 辛烷 污染物 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：包括以下步驟：將SnO2量子點(diǎn)溶液與C8H18以(10-20)：1的質(zhì)量比混合反應(yīng)，并采用紫外光或含有紫外光的混合光進(jìn)行照射，完成SnO2量子點(diǎn)對(duì)C8H18的消除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：紫外光的波長為280-350nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：紫外光的照射時(shí)間為0-48h。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：紫外光的照射時(shí)間為36-48h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：SnO2量子點(diǎn)溶液的濃度為10-5-10-1mol/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：SnO2量子點(diǎn)溶液的濃度為10-3mol/L。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用二氧化錫光催化量子點(diǎn)清除含辛烷污染物的方法，其特征在于：SnO2量子點(diǎn)溶液的制備方法為：將SnCl2和CH4N2S混合溶解于去離子水中，在室溫下攪拌15-30h，得到SnO2量子點(diǎn)溶液。
8.權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述方法在清除海洋油污中的應(yīng)用。
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